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更新時(shí)間:2023-08-05 18:10:40瀏覽次數(shù):280次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線SRS-500型磁控濺射PVD系統(tǒng),最多可配備五個(gè)獨(dú)立濺射靶位,采用渦輪分子泵組和自動(dòng)壓控系統(tǒng)等配置,適用于沉積各種金屬和反應(yīng)膜層
SRS-500型磁控濺射PVD系統(tǒng),最多可配備五個(gè)獨(dú)立濺射靶位,采用渦輪分子泵組和自動(dòng)壓控系統(tǒng)等配置,適用于沉積各種金屬和反應(yīng)膜層。可實(shí)現(xiàn)單靶直濺和多靶共濺功能。適合快速制備多層金屬、反應(yīng)化合膜、半導(dǎo)體介質(zhì)復(fù)合膜等,配備精密沉積速率控制系統(tǒng),非常適合新材料研發(fā)和小批量生產(chǎn)使用。
主要特點(diǎn):
應(yīng)用領(lǐng)域:
主要功能配置說明:
系統(tǒng)外觀圖如下:
腔室結(jié)構(gòu)圖如下:
四靶位濺射+2個(gè)獨(dú)立熱蒸發(fā)單元
五個(gè)獨(dú)立濺射靶位腔室結(jié)構(gòu)圖
轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu)圖:
外形尺寸圖:
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