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SRS-600射頻/中頻磁控濺射鍍膜機(jī) 定制新材料研發(fā)PVD系統(tǒng)

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鑫鐳真空技術(shù)（東莞）有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

系統(tǒng)概述：DC/RF磁控濺射系統(tǒng)是最基本的真空等離子薄膜沉積技術(shù)，是通過(guò)DC、RF（13.56MHz）或脈沖MF（10200kHz）電源對(duì)金屬、半導(dǎo)體及其化合物進(jìn)行薄膜沉積濺射和反應(yīng)膜磁控濺射沉積系統(tǒng)

詳細(xì)介紹

系統(tǒng)概述：

DC / RF磁控濺射系統(tǒng)是最基本的真空等離子薄膜沉積技術(shù)，是通過(guò)DC、RF（13.56 MHz）或脈沖MF（10 – 200 kHz）電源對(duì)金屬、半導(dǎo)體及其化合物進(jìn)行薄膜沉積濺射和反應(yīng)膜磁控濺射沉積系統(tǒng)。

主要功能特點(diǎn)：

應(yīng)用領(lǐng)域：

主要配置：

系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖如下：

可選1、2、3、靶位向上濺射方式，更利于靶位安裝和基片無(wú)污染沉積。
基板支架采用懸架可翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，一次可裝載（沉積）3種以上不同規(guī)格的基材。
3英寸磁控濺射靶利于濺射多層金屬和介質(zhì)材料膜層，更適合用于小型精密光學(xué)器件和超硬膜層。
靶位可根據(jù)工藝在0-25°c角度可調(diào)和30-150mm陰極距離調(diào)整范圍，更便于從金屬-半導(dǎo)體-化合物反應(yīng)濺射沉積多工藝需求。

技術(shù)指標(biāo)	可選配置和增加配件
三組磁控濺射靶全自動(dòng)沉積	低溫泵高真空系統(tǒng)
自動(dòng)記錄并生成沉積薄膜參數(shù)圖，數(shù)據(jù)傳輸和打印	離子束輔助系統(tǒng)增加膜層致密性
自動(dòng)基板公轉(zhuǎn)控制	石英晶體膜厚控制
系統(tǒng)壓力自動(dòng)控制濺射壓力	備用腔室內(nèi)膽
3路MFC布?xì)庀到y(tǒng)	電阻熱主蒸發(fā)系統(tǒng)
極限真空7.0E-7torr(1000L/s)	離子束等離子基板清洗
1RF和1DC+1MF（10 – 200 kHz）電源可三靶共濺	樣品基板公自轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)
電源規(guī)格：380V – 50/60 HZ-50A	多路反應(yīng)氣體MFC
尺寸：高175cm×寬100cm×深100cm	腔體外壁冷卻
質(zhì)量：?276KG	腔體密封套件