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鑫鐳真空技術(shù)（東莞）有限公司


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SRS-400型多靶磁控濺射鍍膜機(jī) 定制科研實(shí)驗(yàn)全自動(dòng)濺射PVD系統(tǒng)

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SRS-400型磁控濺射PVD系統(tǒng)，配備三組磁控濺射靶群及控制系統(tǒng)，適用于沉積各種單/多層膜系.可實(shí)現(xiàn)單靶直濺和多靶共射功能

詳細(xì)介紹

 

SRS-400型磁控濺射PVD系統(tǒng)，配備三組磁控濺射靶群及控制系統(tǒng)，適用于沉積各種單/多層膜系.可實(shí)現(xiàn)單靶直濺和多靶共射功能。制備氮化物和氧化物反應(yīng)膜濺射功能，可沉積金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜層，非常適合科研實(shí)驗(yàn)或新材料研發(fā)使用，適用于快速多層金屬或合成膜沉積工藝。

主要特點(diǎn)：

  • 多膜系沉積功能，可濺射絕大多數(shù)膜層
  • DC/RF濺射電源可以使多種膜系隨意切換
  • 大抽速真空系統(tǒng)即插即用
  • 多靶共鍍功能滿足多層多膜系混鍍要求
  • 全自動(dòng)壓力控制，更利于沉積的均勻性
  • 預(yù)設(shè)參數(shù)全自動(dòng)成膜過(guò)程無(wú)需人為干預(yù)

應(yīng)用領(lǐng)域：

  • 金屬和介質(zhì)膜
  • 薄膜傳感器的制造
  • 光學(xué)元件
  • 納米與微電子
  • 太陽(yáng)能電池

主要配置：

  • 圓筒型真空室尺寸Ф400mm x320mm
  • 500L/s渦輪分子泵+雙級(jí)旋片泵組合
  • 全量程B-A復(fù)合真空規(guī)
  • 三組2英寸磁控濺射靶
  • 公自轉(zhuǎn)陽(yáng)級(jí)基片掛架，更利于大片沉積的均勻性保證。
  • 2DC+1RF濺射電源
  • VAT全自動(dòng)壓控閘閥
  • 石英晶體監(jiān)測(cè)系統(tǒng)用于實(shí)時(shí)厚度測(cè)量（1 nm精度）
  • 精密氣體質(zhì)量流量計(jì)（MFC）
  • 基板600°C短波紅外可調(diào)加熱器
  • 全自動(dòng)腔體上蓋開(kāi)啟裝置
  • 自動(dòng)PLC控制系統(tǒng)可提供手動(dòng)調(diào)試模式
  • 10英寸工控觸控屏，操作簡(jiǎn)單易用

系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖如下：

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技術(shù)指標(biāo) 可選配置和增加配件
三組磁控濺射靶全自動(dòng)沉積 1200L/s渦輪分子泵系統(tǒng)或低溫泵系統(tǒng)
自動(dòng)記錄并生成沉積薄膜參數(shù)圖，USB端口數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C DC PLUS電源，用于化合物共射鍍膜
自動(dòng)基板公轉(zhuǎn)控制 石英晶體膜厚控制
系統(tǒng)壓力自動(dòng)控制濺射壓力 備用腔室內(nèi)膽
2路MFC布?xì)庀到y(tǒng) 電阻熱主蒸發(fā)系統(tǒng)
極限真空7.0E-7torr(700L/s) 射頻離子輔助沉積
1*RF和2*DC電源可三靶共濺 射頻等離子基板清洗
電源規(guī)格：380V – 50/60 HZ-35A 樣品基板公自轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)
尺寸：高125cm×寬75cm×深65cm 多路反應(yīng)氣體MFC
質(zhì)量：?155KG 腔體密封套件

 

更多PVD系統(tǒng)工藝說(shuō)明可查閱本站點(diǎn)解決方案目錄：/jjfa

 

鑫鐳真空專業(yè)為企業(yè)和科研項(xiàng)目制作用于薄膜材料實(shí)驗(yàn)的小型多靶濺射系統(tǒng)，提供真空鍍膜機(jī)的全系統(tǒng)整合、升級(jí)和專用系統(tǒng)定制以及真空設(shè)備整機(jī)維修、安裝等服務(wù)。質(zhì)量可靠，提供多個(gè)案列參考。

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