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束蘊儀器（上海）有限公司


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動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀D-SIMS

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更新時間：2025-07-03 12:33:32瀏覽次數(shù)：24次

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經(jīng)營模式：代理商

商鋪產(chǎn)品：102條

所在地區(qū)：上海上海市

聯(lián)系人：丁林 （市場部經(jīng)理）

產(chǎn)品簡介

ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計，是大 多數(shù)半導體開發(fā)和支持實驗室的常用工具。

詳細介紹

ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計，是大 多數(shù)半導體開發(fā)和支持實驗室的常用工具。通過優(yōu)化的二次離子收集光學系統(tǒng) 和超高真空設計，提供了薄膜結(jié)構(gòu)檢測中的摻雜組分和常見雜質(zhì)所需的靈敏度。

特點:

1）大束流低能量離子設備設計，極大的提高了深度分辨率

2）高性能離子光學系統(tǒng)，改善了二次離子傳輸效率，在提高分析效率的同時又提高了檢測靈敏度

3）高精度全自動5軸樣品操控臺

4）不同方向進入檢測器的二次離子，均可被高靈敏地收集檢測

應用實例分析

采用一次離子源Cs在加速5kV束流為100nA的條件下，分析GaAs中注入的H，C，O元素?？梢钥吹紿檢測限值7.1X1016 atm/cm3，O檢測限值4.4X1015 atm/cm3，C檢測限值2.0X1015 atm/cm3。


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