PhableR具備以低成本光刻系統(tǒng)曝光高分辨率周期性結(jié)構(gòu)的能力。它類似于傳統(tǒng)的紫外曝光機，將涂有光刻膠的晶圓接近掩模版，然后用一束紫外深紫外光照射。由于Eulitha的突破性PHABLE曝光技術(shù)，分辨率不再受到不希望出現(xiàn)的衍射效應(yīng)的限制。如亞微米周期線性光柵和二維圖案等結(jié)構(gòu)(如六方和四方晶格曝光)，均具有高均勻性和保真度。

PhableR 100 DUV光刻機是一款針對科研和研發(fā)的基礎(chǔ)手動機臺。對于納米周期性結(jié)構(gòu)，不需要復(fù)雜的工藝過程或經(jīng)驗，就可以制作大面積，均勻性和重復(fù)性好的一維、二維光柵結(jié)構(gòu)。有關(guān)設(shè)備和服務(wù)的一些特點：

1. 設(shè)備操作簡單

2. 與前后道工藝和配套設(shè)備兼容性性好

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應(yīng)用廣泛，包括:

• 學(xué)術(shù)(R&D)

• XR (AR / VR /MR)

• 光電子學(xué)

• 光學(xué)元件

• 生物/醫(yī)學(xué)

• 色彩/視覺效果

• 光刻技術(shù)服務(wù)