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磁控濺射鍍膜設(shè)備
磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽(yáng)極（鍍膜室壁）之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使氬氣發(fā)生電離。

型號(hào)： MSP-300/4... 所在地：北京市參考價(jià)： ￥10更新時(shí)間：2025/5/16 16:12:26 對(duì)比

磁控濺射鍍膜臺(tái)式
化學(xué)氣相沉積（PECVD）
是一種在沉積腔室利用輝光放電使其電離后在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)沉積的半導(dǎo)體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法

型號(hào)： PECVD-601... 所在地：北京市參考價(jià)： ￥10更新時(shí)間：2025/5/16 16:10:34 對(duì)比

PECVD氣相沉積鍍膜
德國(guó)SENTECH 化學(xué)氣相沉積（預(yù)真空室）
SI 500 PPD是電容平板式PECVD等離子沉積設(shè)備，主要用于SiO2，SiOxNy，SiNy，a-Si，SiC薄膜的沉積。適用于2“--8“樣片的薄膜沉...

型號(hào)： SI 500 PP... 所在地：北京市參考價(jià)： ￥10更新時(shí)間：2025/5/16 8:34:46 對(duì)比

化學(xué)氣相沉積PECVD
德國(guó)SENTECH 電感耦合化學(xué)氣相沉積
SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設(shè)備，利用ICP高密度等離子源來(lái)沉積電介質(zhì)薄膜?？稍跇O低溫度下( 100ºC)沉積高質(zhì)量SiO2, S...

型號(hào)： SI 500 D 所在地：北京市參考價(jià)： ￥10更新時(shí)間：2025/5/16 8:07:04 對(duì)比

化學(xué)氣相沉積PECVD
熱阻/電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)設(shè)備
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是化合物半導(dǎo)體器件制作中的一種重要工藝技術(shù)。它是在高真空狀態(tài)下由電子束加熱坩堝中的金屬，使其熔融后蒸發(fā)到所需基片上形成金屬膜。可蒸發(fā)很多難熔金屬或...

型號(hào)： MEB-600/8... 所在地：北京市參考價(jià)： ￥10更新時(shí)間：2025/4/28 8:35:14 對(duì)比

電子束蒸發(fā)鍍膜鍍膜

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