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實驗室用納米CVD石墨烯/碳納米管合成器技術(shù)

時間:2023/3/24閱讀:1099
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實驗室用納米CVD石墨烯/碳納米管合成器技術(shù)


? 型號。 納米CVD-8G(用于石墨烯合成)
?型號。 納米CVD-8N(用于碳納米管)

每批僅需 1 分鐘,可輕松合成高質(zhì)量石墨烯和碳納米管

CVD(化學(xué)氣相沉積)

CVD法是一種穩(wěn)定的技術(shù),已經(jīng)建立了多種用途,它是未來大規(guī)模合成石墨烯和碳納米管的最現(xiàn)實的方法,因此我們在這臺機器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield與英國國家研究所合作,多次驗證了這種薄膜沉積實驗裝置。 在與研究機構(gòu)的合作下,已經(jīng)驗證了使用拉曼光譜,SEM,AFM等分析數(shù)據(jù)可以制備高質(zhì)量的石墨烯和CNT樣品。

冷壁CVD

采用冷壁/高溫樣品加熱臺(熱板),反應(yīng)快,重現(xiàn)性好。 設(shè)備小型化,加工時間縮短,可操作性強,可創(chuàng)建并存儲30種合成配方。 除了標準系統(tǒng)配置外,還可以根據(jù)要求定制設(shè)備配置。 nanoCVD系統(tǒng)是一種實驗裝置,盡管體積小,但具有為基礎(chǔ)研究和開發(fā)領(lǐng)域做出貢獻的無限潛力。

技術(shù)特點

  • 無需使用大型設(shè)備即可輕松進行石墨烯碳納米管 (SWNT) 沉積實驗

  • 1批次只需30分鐘!

  • 冷壁式高效高精度過程控制

  • 快速升溫:室溫→1100°C約3分鐘

  • 高性能機器,具有高精度的溫度流量控制和出色的可重復(fù)性

  • 操作簡單! 通過 5 英寸觸摸屏進行操作和配方管理

  • 最多可創(chuàng)建和保存 30 個配方和 30 步合成程序。

  • 標配專用軟件,數(shù)據(jù)記錄為輸出PC上的CSV文件

  • USB電纜連接,PC端的配方創(chuàng)建→上傳到設(shè)備

納米CVD-8N(碳納米管)

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帶旋轉(zhuǎn)泵的納米CVD-8N

nanoCVD-8N是一種通過CVD化學(xué)氣相沉積法使用各種基質(zhì)和催化劑在短時間內(nèi)生長CNT的系統(tǒng)。 碳納米管是通過將 CH2、C2H3 和 C3H4 等烴原料與薄膜或細顆粒(如鐵、鈷和鎳)反應(yīng)產(chǎn)生的,這些薄膜或細顆粒用作催化劑,在石墨臺上使用 SiO1100/Si、Al4O2/Si 和 Si4N2 等基材在高達 2°C 的高溫下燃燒。

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寬度為7um的低覆蓋率的SEM圖像

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高覆蓋寬度2.8um的SEM圖像

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使用納米CVD-8N制作的“SWNT森林"的SEM圖像,圖像寬度24um)

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原子力顯微鏡圖像

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拉曼光譜514nm激光器

 
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D&G拉曼峰區(qū)域


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