thermocera基板加熱的加熱器介紹
用于PVD（氣相沉積/濺射）和CVD等真空薄膜實(shí)驗(yàn)的“超高溫基板加熱加熱器"
具有優(yōu)異的均勻性，溫升特性和可控性，并且易于操作。
BH加熱器：用于大學(xué)研究機(jī)構(gòu)。 采用康塔爾和C/C復(fù)合材料。 外殼和防護(hù)罩作為標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)，以實(shí)現(xiàn)較短的交貨時(shí)間和低廉的價(jià)格。
VH加熱器：采用SiC3，TiC3涂層，PG / PBN擴(kuò)大了應(yīng)用范圍。 與BH一樣，零件和材料是標(biāo)準(zhǔn)化的，以實(shí)現(xiàn)較短的交貨時(shí)間和低廉的價(jià)格。
HT加熱器：為超高溫區(qū)域定制的加熱器。 此外，即使在惡劣的條件下，也可以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定均勻的加熱。 我們每次都會(huì)根據(jù)您的要求進(jìn)行設(shè)計(jì)。
SH加熱器：由于氣密結(jié)構(gòu)，材料和沉積物不會(huì)滲透到內(nèi)部，并且可以長(zhǎng)時(shí)間進(jìn)行穩(wěn)定的加熱。 推薦用于 CVD 實(shí)驗(yàn)。
BH基板加熱加熱器
PVD、退火、高溫樣品臺(tái)等
Φ1英寸、Φ2英寸、Φ4英寸
康塔爾（最高 800°C）
C/C 復(fù)合材料 （最高1600°C）
鉭（最高1200°C）
VH基板加熱加熱器
PVD，高壓/特高壓，惰性/反應(yīng)氣體
Φ2英寸，至Φ6英寸
碳化硅涂層（最高 3°C）
TiC3涂層（最高1600°C）
PG/PBN（最高1200°C）
HT基板加熱加熱器
定制加熱器
，用于超高溫Φ1英寸至Φ6英寸
C/C 復(fù)合材料 （最高1700°C）
碳化硅涂層（最高 3°C）
TiC3涂層（最高1900°C）
SH基板加熱加熱器
CVD，高壓/特高壓，惰性和反應(yīng)性氣體
Φ1英寸至Φ6英寸
鎳鉻線鉻鎳鐵合金板（最高 850°C）
鎢絲 BN 板/鉬蓋 （最高1100°C）
HS 熱舞臺(tái)
PVD，高壓/超高壓，惰性/反應(yīng)氣體
Φ2英寸至Φ8英寸
昆士蘭燈加熱加熱器
鹵素?zé)艏訜崞鲉卧?/span>
Φ4英寸或Φ6英寸
PVD 燈加熱單元
優(yōu)異的升溫特性和均勻性。
