1. SONOSYS兆聲波噴嘴在半導(dǎo)體清洗中的應(yīng)用環(huán)節(jié)

• 光刻后清洗：去除光刻膠殘留和光刻過(guò)程中產(chǎn)生的微小顆粒。
• 蝕刻后清洗：去除蝕刻過(guò)程中產(chǎn)生的副產(chǎn)物和殘留物。
• 薄膜沉積后清洗：去除沉積過(guò)程中產(chǎn)生的顆粒和雜質(zhì)。
• 晶圓表面清洗：在晶圓制造的各個(gè)階段，去除表面的有機(jī)物、無(wú)機(jī)物和納米級(jí)顆粒。
• 晶圓背面清洗：去除背面的顆粒和殘留物，確保晶圓的整體潔凈度。

2. 具體應(yīng)用步驟

（1）設(shè)備準(zhǔn)備

• 兆聲波噴嘴：選擇合適的兆聲波噴嘴頻率（如1 MHz、2 MHz、3 MHz、4 MHz或5 MHz），根據(jù)晶圓的材料和污染物類型選擇合適的頻率。
• 清洗液：通常使用去離子水（DI Water）或?qū)Ｓ玫陌雽?dǎo)體清洗液。
• 清洗設(shè)備：配備SONOSYS兆聲波噴嘴的清洗系統(tǒng)，確保系統(tǒng)能夠提供穩(wěn)定的高頻振動(dòng)和液體流動(dòng)。

（2）預(yù)處理

• 晶圓檢查：在清洗前對(duì)晶圓進(jìn)行檢查，記錄表面的污染物類型和分布情況。
• 初步清潔：如果晶圓表面有明顯的顆?；蛭廴疚?，可以先用軟布或刷子輕輕擦拭，去除大顆粒污染物。

（3）兆聲波清洗

• 噴嘴安裝：將SONOSYS兆聲波噴嘴安裝在清洗設(shè)備上，確保噴嘴的噴射方向能夠覆蓋晶圓的各個(gè)部位。
• 液體循環(huán)：?jiǎn)?dòng)清洗系統(tǒng)，使清洗液在晶圓表面循環(huán)流動(dòng)。兆聲波噴嘴產(chǎn)生的高頻振動(dòng)會(huì)通過(guò)清洗液傳遞到晶圓表面，產(chǎn)生空化效應(yīng)，去除表面的微小顆粒和污染物。
• 清洗時(shí)間：根據(jù)晶圓的污染程度和材料特性，調(diào)整清洗時(shí)間。一般來(lái)說(shuō)，清洗時(shí)間在5到30分鐘之間。對(duì)于高精度清洗，可能需要更長(zhǎng)的時(shí)間。
• 溫度控制：在清洗過(guò)程中，控制清洗液的溫度。通常，清洗液的溫度在20℃到40℃之間。
• 頻率調(diào)整：根據(jù)晶圓表面的污染物類型，選擇合適的兆聲波頻率。例如，高頻（如4 MHz或5 MHz）適用于清洗納米級(jí)顆粒，低頻（如1 MHz或2 MHz）適用于清洗較大顆粒。

（4）后處理

• 漂洗：使用去離子水對(duì)晶圓進(jìn)行漂洗，去除殘留的清洗液和污染物。
• 干燥：使用氮?dú)饣蚋稍镌O(shè)備將晶圓表面吹干，確保沒(méi)有水分殘留。
• 檢查：使用光學(xué)檢測(cè)設(shè)備檢查晶圓表面的清潔度，確保清洗效果符合要求。

3. SONOSYS兆聲波噴嘴的優(yōu)勢(shì)

• 高頻范圍：SONOSYS的兆聲波噴嘴提供從400 kHz到5 MHz的多種頻率選擇，能夠滿足不同材料和污染物的清洗需求。
• 無(wú)接觸清洗：通過(guò)流動(dòng)液體將能量傳遞到晶圓表面，避免了傳統(tǒng)清洗方式可能對(duì)敏感表面造成的機(jī)械損傷。
• 高效清洗：高頻振動(dòng)和空化效應(yīng)能夠高效去除納米級(jí)顆粒，清洗效的果的顯的著優(yōu)于傳統(tǒng)超聲波清洗。
• 多種噴嘴設(shè)計(jì)：提供單噴嘴、雙噴嘴和三噴嘴等多種設(shè)計(jì)，可以根據(jù)清洗對(duì)象的形狀和面積進(jìn)行選擇。
• 節(jié)能高效：相比傳統(tǒng)清洗方式，能耗更低，同時(shí)清洗效果更佳。
• 定制化服務(wù)：根據(jù)客戶的特殊需求提供定制化噴嘴設(shè)計(jì)，確保客戶獲得最的適的合其應(yīng)用的清洗解決方案。

4. 實(shí)際案例

5. 注意事項(xiàng)

• 頻率選擇：根據(jù)晶圓的材料和污染物類型選擇合適的兆聲波頻率。
• 清洗液選擇：確保清洗液對(duì)晶圓材料無(wú)腐蝕性。
• 定期維護(hù)：定期檢查兆聲波噴嘴和清洗設(shè)備的性能，確保其正常運(yùn)行。
• 安全操作：操作人員應(yīng)遵守安全規(guī)程，佩戴適當(dāng)?shù)姆雷o(hù)裝備。