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更新時(shí)間：2025-05-08 08:42:38瀏覽次數(shù)：55次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線產(chǎn)品簡(jiǎn)介：GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可對(duì)程序進(jìn)行設(shè)定，并精確控制溫度在200oC-1500oC（或者1200oC-~1700oC）的范圍內(nèi)進(jìn)行變化，可蒸鍍直徑長(zhǎng)達(dá)2"的薄膜樣品，在對(duì)樣品進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜的過程中，樣品臺(tái)可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，以獲得更均勻的薄膜
產(chǎn) 品 簡(jiǎn)介 ：GSL-1700X-SPC-2 小 型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可對(duì)程序進(jìn)行設(shè) 定 ， 并精確控制溫度在 200oC-1500oC （或者 1200oC-~1700oC）的范圍內(nèi)進(jìn)行變化， 可蒸鍍直徑長(zhǎng)達(dá) 2"的薄膜樣品， 在對(duì)樣品進(jìn)行 蒸發(fā)鍍膜的過程中，樣品臺(tái)可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，以獲得更均勻的薄膜。 GSL-1700X-SPC-2 小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜 儀應(yīng)用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜，因此被廣泛用于電極的制備和有機(jī)物發(fā)光 LED 的制備。 GSL-1700X-SPC-2 小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀體積小巧，可有效節(jié)約實(shí)驗(yàn)室空間；操作簡(jiǎn)單， 對(duì)不同材料的 適應(yīng)性強(qiáng)，因此被廣泛應(yīng)用于各大高校和科研院所的實(shí)驗(yàn)室當(dāng)中。
產(chǎn)品名稱 | GSL-1700X-SPC-2 小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號(hào) | GSL-1700X-SPC-2 | |
主要特點(diǎn) | 1 、已通過 CE 認(rèn)證。 | |
2、采用石英腔體，易于清潔和樣品的放入。 | ||
3、樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)，能夠使所制薄膜達(dá)到更好的均勻性。 | ||
4、采用鎢絲作為發(fā)熱源，溫度可達(dá)到 1700℃，并配有專用的氧化鋁舟裝載樣品（僅 1600oC 以 下使用， 若蒸發(fā)溫度大于 1600oC，樣品應(yīng)直接放在鎢絲籃中）。 | ||
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5、熱電偶安裝在坩堝底部，以便于溫度測(cè)量和控制。 | ||
6、可將設(shè)備轉(zhuǎn)換到手動(dòng)調(diào)節(jié)狀態(tài)， 內(nèi)部不安裝熱電偶， 直接采用手動(dòng)調(diào)節(jié)輸出電流大小， 發(fā) | ||
熱源溫度可達(dá) 2000oC，可達(dá)到對(duì)樣品鍍碳等實(shí)驗(yàn)要求。 7 、可向真空腔體中通入惰性氣體，對(duì)腔體進(jìn)行清洗，也可通入反應(yīng)氣體，進(jìn)行反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜。 | |
8、進(jìn)氣口配有針閥，用于調(diào)節(jié)進(jìn)氣流量。 | |
技術(shù)參數(shù) | 1、電壓： AC 208V-220V 50Hz/60Hz 單相 2 、Max 功率： 500W ，Max 大電流為 30A 3、真空腔體：石英腔體，直徑 ?6" 4、樣品臺(tái)： 直徑 ?50mm；可旋轉(zhuǎn)， 轉(zhuǎn)速5rpm；與蒸發(fā)源間距可調(diào)， 調(diào)節(jié)范圍 60mm-100mm 5 、Max 溫度： 1700oC 6、熱電偶： S 型熱偶， 工作溫度 200oC-1500oC（可選用 B 型熱偶， 工作溫度 1200oC-1700oC） 7、控溫精度：± 1oC，數(shù)顯溫度控制器， 可設(shè)置 30 段升降溫程序 8、鎢絲籃： 2 個(gè) |
9、真空接口： KF40 10、真空計(jì)： 數(shù)顯防腐真空計(jì) PCG554 ，測(cè)量范圍 3.8×10-5-1125torr 11、進(jìn)氣接口： 1/4NPS | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸： 440mm×330mm×630mm
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可選配件 | 1、機(jī)械泵（帶油污過濾器）（真空度<10-2torr，可以蒸發(fā)貴金屬， 如 Au 、Ag） 2、分子泵（可獲得高真空，真空度<10-5torr，蒸發(fā)易氧化材料， 如 Al 、Mg 、Li 等） 3、低真空系統(tǒng) |
4、高真空系統(tǒng) |
5、等離子清洗機(jī)（鍍膜前對(duì)基片進(jìn)行清洗，可獲得更好的薄膜強(qiáng)度） |
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