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CIF RIE反應離子刻蝕機

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產(chǎn)品型號

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更新時間:2023-01-13 14:24:32瀏覽次數(shù):527次

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產(chǎn)品簡介

CIF推出RIE反應離子刻蝕機,采用RIE反應離子誘導激發(fā)方式,實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學,科研院所、微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。適用于所有的基材及復雜的幾何構(gòu)形進行RIE反應離子刻蝕。主要參數(shù):{dede:field.main/}發(fā)動機:{de......

詳細介紹

CIF推出RIE反應離子刻蝕機,采用RIE反應離子誘導激發(fā)方式,實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學,科研院所、微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。適用于所有的基材及復雜的幾何構(gòu)形進行RIE反應離子刻蝕。具體包括:

介電材料(SiO2、SiNx等)

硅基材料(Si,a-Si,poly Si)

III-V材料(GaAs、InP、GaN等)

濺射金屬(Au、Pt、Ti、Ta、W等)

類金剛石(DLC)

0609_刻蝕機-3.3.jpg

產(chǎn)品特點:

PLC工控機控制整個清洗過程,全自動進行。

7寸彩色觸摸屏互動操作界面,圖形化操作界面顯示,自動監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài),0~99配方程序,可存儲、輸出、追溯工藝數(shù)據(jù),機器運行、停止提示。

手動、自動兩種工作模式。

全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì),耐腐蝕無污染。

采用防腐數(shù)字流量計控制,標配雙路氣體輸送系統(tǒng),可選多氣路氣體輸送系統(tǒng),氣體分配均勻??奢斎?/span>氧氣、氬氣、氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣等氣體。

具備HEPA高效過濾氣體返填吹掃功能。

符合人體功能學的60度傾角操作界面設計,操作方便,界面友好。

316不銹鋼、航空鋁真空倉選擇。

采用頂置真空倉,上開蓋設計,下壓式鉸鏈開關方式。上置式360度水平取放樣品設計,符合人體功能學,操作更方便。

有效處理面積大,可處理直徑200mm晶元硅片。

安全保護,倉門打開,自動關閉電源。

技術參數(shù)

型號

RIE200

RIE200plus

艙體內(nèi)尺寸

H38xΦ260mm

H38xΦ260mm

艙體容積

2L

2L

射頻電源

40KHz

13.56MHz

電極

不銹鋼氣浴RIE電極,Φ200mm

不銹鋼氣浴RIE電極,Φ200mm

匹配器

自動匹配

自動匹配

刻蝕方式

RIE

RIE

射頻功率

10-300W可調(diào)(可選10-1000W)

10-300W可調(diào)(可選10-600W)

氣體控制

質(zhì)量流量計(MFC)(標配雙路,可選多路)流量范圍0-500SCCM(可調(diào))

工藝氣體

Ar、N?、O?、H?CF4、CF4+ H2、CHF3或其他混合氣體等(可選)

處理尺寸

Φ200mm

時間設定

1-99分59秒

真空泵

抽速約8m3/h

氣體穩(wěn)定時間

1分鐘

極限真空

1Pa

AC220V 50-60Hz,所有配線符合《低壓配電設計規(guī)范 GB50054-95》、《低壓配電裝置及線路設計規(guī)范》等國標標準相關規(guī)定。

當?shù)入x子蝕刻應用涉及使用氧氣作為工藝氣體時,出于安全原因,強烈建議使用Edwards愛德華真空泵 RV3雙級旋片泵或類似的合成油旋轉(zhuǎn)機械泵。因為Edwards愛德華RV3雙級旋片泵泵科學應用方面已成為行業(yè)標準。當然,在需要避免使用油基旋轉(zhuǎn)機械泵的地方,也可選擇干式真空泵。


圖片1.png

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