污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間：2023-06-10 18:32:09瀏覽次數(shù)：229次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線SAMCO二手翻新ICP刻蝕機(jī)RIE-400iPC，是高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)，采用電感耦合等離子體作為放電形式
SAMCO二手翻新ICP刻蝕機(jī)RIE-400iPC，是高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)，采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一個(gè)具有優(yōu)良工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性的全規(guī)模生產(chǎn)系統(tǒng)。該系統(tǒng)是直徑4英寸等小直徑晶圓的專用系統(tǒng)，可以在最小的潔凈室空間內(nèi)安裝。
可高效穩(wěn)定地應(yīng)用高射頻功率（2千瓦以上），并實(shí)現(xiàn)良好的均勻性。
排氣系統(tǒng)直接連接到反應(yīng)室，可以實(shí)現(xiàn)從小流量和低壓范圍到大流量和高壓范圍的廣泛工藝窗口。
干涉法和發(fā)射光譜終點(diǎn)監(jiān)測(cè)儀可用于目標(biāo)薄膜厚度的終點(diǎn)檢測(cè)。
TMP(渦輪分子泵)已集成在一個(gè)單元中，便于更換。
GaN、GaAs、InP等化合物半導(dǎo)體的高精度加工
SiC、SiO?的高速加工
蝕刻鐵電材料（PZT、BST、SBT、SBT）、電極材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他難以蝕刻的材料
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