污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
武漢鑫卓雅科技發(fā)展有限公司
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更新時(shí)間：2023-07-24 17:27:15瀏覽次數(shù)：245次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線該鍍膜機(jī)可鍍制不銹鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬，也可鍍制合金膜或化合物，也可在工件表面上鍍制單層或多層介質(zhì)膜或金屬ZrN、TiCN、TiAlN等硬質(zhì)或裝飾涂層，具有鍍膜速度快、膜層質(zhì)量好的優(yōu)點(diǎn)
該鍍膜機(jī)可鍍制不銹鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬，也可鍍制合金膜或化合物，也可在工件表面上鍍制單層或多層介質(zhì)膜或金屬 ZrN、TiCN、TiAlN 等硬質(zhì)或裝飾涂層，具有鍍膜速度快、膜層質(zhì)量好的優(yōu)點(diǎn)。
◆真空室：鍍膜室尺寸900mm×900mm×1000mm；箱式、前開門結(jié)構(gòu)；
◆抽氣系統(tǒng)：機(jī)械泵：前級(jí)泵70L/S；維持泵：2X-8旋片泵；羅茨泵：ZJP-150；
擴(kuò)散泵：KT-500 ；分子泵: FF250/1600（選配）；
◆極限真空：5×10-4Pa；恢復(fù)真空：5×10-3 Pa（小于20min）；
◆鍍膜系統(tǒng)：平面磁控靶或圓柱磁控靶/直流功率源或中頻功率源；小弧源/柱弧源；
◆ 輔助鍍膜系統(tǒng)：脈沖偏壓電源，條形離子源（選配）；
◆ 膜厚測(cè)量系統(tǒng)：石英晶體膜厚監(jiān)控系統(tǒng)（選配）；
◆ 進(jìn)氣系統(tǒng)：自動(dòng)壓強(qiáng)控制+多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)；
◆操作方式：手動(dòng)按鍵式；控制系統(tǒng)配置：研華工控機(jī)，80G硬盤，512內(nèi)存+日本三菱PLC；10英寸液晶顯示觸 摸屏界面；
◆ 旋轉(zhuǎn)夾具：公轉(zhuǎn)/自轉(zhuǎn)夾具，速度從 0～15r/min 無(wú)級(jí)可調(diào)；
◆ 工件烘烤：室溫～300℃；
◆ 供電電源: 三相380V，50Hz。
◆ 特殊規(guī)格可定制。
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