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日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-1SW

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所在地深圳市

更新時(shí)間:2024-05-16 18:11:15瀏覽次數(shù):1181次

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日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-1SW
該裝置是用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。采用空心陰極樣品臺(tái),通過(guò)低壓放電進(jìn)行鍍膜,幾乎沒(méi)有樣品損壞。

日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-1SW

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該裝置是用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。采用空心陰極樣品臺(tái),通過(guò)低壓放電進(jìn)行鍍膜,幾乎沒(méi)有樣品損壞。在空心陰極中會(huì)產(chǎn)生均勻的高密度等離子體,因此無(wú)論樣品的高度和材料如何,都可以在放置在圓柱體中的樣品表面形成厚度均勻的 Os 膜。中空陰極僅注入必要量的鋨氣體,消耗量小,未反應(yīng)的氣體被活性炭捕集器吸附去除,從而抑制了有害氣體釋放到大氣中。

規(guī)格

物品規(guī)格
電源AC100V(單相100V15A)1口
設(shè)備尺寸寬200mm x 深350mm x 高375mm
(設(shè)備重量15.5Kg)
泵尺寸排氣速度 50?/min (G-50DA 特殊型)
寬 156mm x 深 341mm x 高 200mm
(泵重 12kg)
樣品室尺寸內(nèi)徑120mm x 高90mm(硬玻璃)
陰極尺寸內(nèi)徑105mm x 深度37mm(空心陰極法)
樣品臺(tái)尺寸直徑50mm(浮動(dòng)法)

日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-1SW

該裝置是用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。采用空心陰極樣品臺(tái),通過(guò)低壓放電進(jìn)行鍍膜,幾乎沒(méi)有樣品損壞。在空心陰極中會(huì)產(chǎn)生均勻的高密度等離子體,因此無(wú)論樣品的高度和材料如何,都可以在放置在圓柱體中的樣品表面形成厚度均勻的 Os 膜。中空陰極僅注入必要量的鋨氣體,消耗量小,未反應(yīng)的氣體被活性炭捕集器吸附去除,從而抑制了有害氣體釋放到大氣中。

規(guī)格

物品規(guī)格
電源AC100V(單相100V15A)1口
設(shè)備尺寸寬200mm x 深350mm x 高375mm
(設(shè)備重量15.5Kg)
泵尺寸排氣速度 50?/min (G-50DA 特殊型)
寬 156mm x 深 341mm x 高 200mm
(泵重 12kg)
樣品室尺寸內(nèi)徑120mm x 高90mm(硬玻璃)
陰極尺寸內(nèi)徑105mm x 深度37mm(空心陰極法)
樣品臺(tái)尺寸直徑50mm(浮動(dòng)法)



日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-20

日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-20$r$n該裝置是用于電子顯微鏡

日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-1SW

日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-1SW$r$n該裝置是用于電子顯微

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