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結合鍋爐的水質分析污水處理設備特點

二氧化硅的去除

二氧化硅具不同于水中其他機污染物的性質。二氧化硅是非離子性的物質；在大多數(shù)進料水中，具可檢出量的濃度。它能以單個分子或聚合成一定分子量的膠體存在。在一定的濃度和PH條件下，二氧化硅會沉淀形成單個粒子。對此單個粒子的去除，IX是能為力的；但是RO對粒狀二氧化硅的去除是完效的，同時也能去除溶解的二氧化硅。

高純水系統(tǒng)中的問題

因為RO系統(tǒng)是復雜的，高度工程監(jiān)督的，運動部件的機械過程，所以它們同所的設備系樣，受制于同樣的缺點。但是，高純系統(tǒng)的某些性涉及殊的問題，為了避免對水質的嚴重的負面影響，在設計和操作階段必須慎審地注意這些殊的問題。廢水需要處理的單位，

再污染

在設計和開始工作階段必須強調這個問題。為了良好的性能，組件的材料應該在整個加工過程中保持潔凈狀態(tài)。從不當?shù)哪ど掀吹袅Ｗ邮抢щy的。在裝膜之前，應該仔細漂洗RO的管件和壓力容器。添加消毒劑，如過氧化氫，在初漂洗期間能夠幫助去除這類粒子。當然，如同任何化學一樣，這些氧化劑的濃度應保持低于會使RO單元的結構材料降解的濃度。

若可能的話，RO單元一經操作，就應保持連續(xù)運作。長時間停工，由于細菌在透過液流道中的大量繁殖而產生粒子聚集。當RO單元重新使用時，產品水的細菌污染將明顯增加，需耗費很多時間沖洗。心要求獲得盡可能好的水質場合，必須將RO產品水返至RO單元入口，以系統(tǒng)時間操作。

引起膜旁路的常遇到的問題是O形密封環(huán)的泄漏。每個膜單元的兩端都用O形環(huán)密封的連接器。這是一個的密封方法，在合適的情況下是十分效的。但是，為了使O形環(huán)密封嚴格，密封的部件必須是靜止固定的，但在RO壓力容器中，這不容易作到，當泵啟動時，壓力容器中的壓力增加，容器拉伸。同時，由于在咸水流道中水流動的拖曳，所力在膜單元上。由此引起膜單元在咸水流動方向上移動。

結論

高純水，必須嚴格控制粒子、細菌和TOC含量是的關鍵過程。RO膜的質量必須不斷改進，工程必須加強對RO及高純水系統(tǒng)的、設計和操作更多的了解。

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