一個(gè)理想的真空系統(tǒng)或者真空容器，應(yīng)當(dāng)是不存在任何漏孔，更不會(huì)產(chǎn)生任何漏氣現(xiàn)象的。但是，就任何真空系統(tǒng)或真空閥來(lái)說(shuō)，不漏的現(xiàn)象是不可能的。特別是在壓力極低的情況下，隨著漏氣現(xiàn)象的影響不斷加劇，真空度達(dá)不到預(yù)定的工藝要求，是一個(gè)相當(dāng)普遍的問(wèn)題。因此，在檢測(cè)真空閥或真空系統(tǒng)存在的漏氣部位、確定漏孔的大小、堵塞漏孔從而消除漏氣現(xiàn)象，就成為真空技術(shù)工作者的一項(xiàng)重要工作。
所謂漏氣或稱(chēng)實(shí)漏，它是指氣體通過(guò)真空系統(tǒng)上的漏孔或間隙，從高壓側(cè)流向低壓側(cè)的一種現(xiàn)象。真空閥檢漏技術(shù)中的一些常用基本概念有九點(diǎn)。
其一稱(chēng)為虛漏，它是相對(duì)于實(shí)漏而言的一種物理現(xiàn)象。這種現(xiàn)象大都是由于材料的放氣、解吸、凝解氣體的再蒸發(fā)或真空系統(tǒng)內(nèi)存在死空間中氣體的流出等原因而引起真空系統(tǒng)或真空閥中壓力升高檢漏的一種現(xiàn)象。真空閥檢漏的時(shí)候需要排除虛漏的影響。氣密性表征著真空系統(tǒng)或容器的壁對(duì)空氣不渴沉頭程度的一種可能。其三是漏孔，所謂的真空閥漏孔是指真空容器上存在形狀不定、極其微小的孔洞或間隙。大氣通過(guò)這種小孔或間隙進(jìn)入真空系統(tǒng)或容器中。第四點(diǎn)是真空漏率，即為真空閥漏氣速率，它代表在的單位時(shí)間內(nèi)通過(guò)漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器內(nèi)的氣體量。其五是采用某種檢漏方法或真空儀器可能檢測(cè)出來(lái)的zui小漏率。還有檢漏靈敏度，或者可稱(chēng)之為有效靈敏度。對(duì)于它的相應(yīng)時(shí)間來(lái)說(shuō)，從真空閥檢漏方法開(kāi)始實(shí)施到指示方法或真空儀器指示值上升到其zui大值的63%時(shí)所需要的時(shí)間。而消除時(shí)間是指從檢漏方法停止到指示方法或儀器指示值下降到停止值的37%所需時(shí)間。zui后就是由灰塵或液體所造成的漏孔堵塞，這些堵塞常常是指由于檢漏作業(yè)操作不當(dāng)而導(dǎo)致發(fā)生的一種暫時(shí)現(xiàn)象，真空閥檢漏時(shí)似乎不漏氣，但一經(jīng)排氣又會(huì)出現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象，我們把它稱(chēng)為漏孔的堵塞現(xiàn)象。
會(huì)員1.png)