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蘇州森沃斯工業(yè)設(shè)備有限公司


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關(guān)聯(lián)工業(yè)顯微鏡

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聯(lián)系方式：陳先生查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2023-08-20 18:04:00瀏覽次數(shù)：280次

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經(jīng)營(yíng)模式：其他

商鋪產(chǎn)品：8條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：陳先生

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

關(guān)聯(lián)顯微鏡技術(shù)解決方案的優(yōu)點(diǎn)為了獲得樣品的實(shí)質(zhì)，需要經(jīng)常使用多種方法進(jìn)行分析

詳細(xì)介紹


關(guān)聯(lián)顯微鏡技術(shù)

解決方案的優(yōu)點(diǎn)

為了獲得樣品的實(shí)質(zhì)，需要經(jīng)常使用多種方法進(jìn)行分析。從微米級(jí)到納米級(jí)的觀察需要將光學(xué)與電子顯微鏡（CLEM）或X射線顯微鏡與FIB-SEM聚焦離子束掃描電子顯微鏡（CXF）進(jìn)行相關(guān)聯(lián)。蔡司的關(guān)聯(lián)顯微鏡技術(shù)為您提供了集成化的解決方案和無(wú)縫銜接的工作流程。選擇蔡司作為光學(xué)顯微鏡、電子顯微鏡、離子束顯微鏡和X射線顯微鏡的供應(yīng)商，并從多年的關(guān)聯(lián)分析經(jīng)驗(yàn)中受益。選擇以樣品為中心的圖像和數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)技術(shù)，使您的研究工作超越單一顯微鏡能夠達(dá)到的技術(shù)界限。

  • 獲得對(duì)樣品的見(jiàn)解
  • 無(wú)縫地從微米級(jí)別轉(zhuǎn)移到納米級(jí)別
  • 采用簡(jiǎn)化的工作流程在更短的時(shí)間內(nèi)獲取更多數(shù)據(jù)
  • 受益于強(qiáng)大的圖像和數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)處理性能
  • 從2D到4D獲取，處理和分析數(shù)據(jù)
  • 使用關(guān)聯(lián)顯微鏡技術(shù)中的蓋玻片和夾具進(jìn)行準(zhǔn)確和高效的工作

蔡司關(guān)于增材制造的關(guān)聯(lián)顯微鏡技術(shù)解決方案

深入理解并改善缺陷檢測(cè)，并從根源抑制缺陷產(chǎn)生

特點(diǎn)

  • 深入了解缺陷的產(chǎn)生; 如雜質(zhì)，殘留物，不正確的幾何形狀
  • 了解 CAD圖紙中的材料屬性，粉末質(zhì)量，激光參數(shù)和布局等屬性的影響
  • 使用高襯度，高分辨率成像以區(qū)分材料中不同的相
  • 在微觀結(jié)構(gòu)內(nèi)非破壞性地確認(rèn)三維亞表面特征

蔡司關(guān)聯(lián)顯微鏡技術(shù)已被證實(shí)可成功識(shí)別3D打印部件中的雜質(zhì)，并通過(guò)應(yīng)用多個(gè)工作流程來(lái)了解其產(chǎn)生原因。蔡司Xradia Versa被用來(lái)進(jìn)行大范圍掃描，然后將可疑的亮點(diǎn)位置轉(zhuǎn)移到蔡司 Crossbeam中，并用蔡司Atlas 5重新定位，最后利用EDX進(jìn)行分析。這種方法可以識(shí)別雜質(zhì)的來(lái)源，這些雜質(zhì)往往來(lái)自于之前的3D打印作業(yè)，由于使用了不同的粉末材料而未能清潔粉末容器而引入的。

蔡司關(guān)于研究納米顆粒結(jié)構(gòu)和化學(xué)分析的關(guān)聯(lián)顯微技術(shù)

提供納米級(jí)別材料的定量，高分辨率分析

特點(diǎn)

  • 納米顆粒和納米材料的可視化
  • 觀察納米材料的結(jié)構(gòu)信息 
  • 對(duì)輕元素和官能團(tuán)的量化研究

為了使用光學(xué)顯微鏡檢測(cè)納米顆粒和納米材料（如石墨烯），研究人員使用蔡司Axio Imager顯微鏡優(yōu)異的偏振光襯度，并將其與蔡司全干涉襯度（TIC）模塊相結(jié)合，使得可以對(duì)納米材料的厚度進(jìn)行檢測(cè)。接下來(lái)，使用關(guān)聯(lián)顯微鏡技術(shù)，使蔡司 FE-SEM可對(duì)石墨烯薄片重新定位，以便能夠觀察其結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分。由于類似碳元素和官能團(tuán)之類的輕元素通過(guò)EDX無(wú)法進(jìn)行表征，研究人員使用蔡司原位拉曼顯微鏡（RISE）進(jìn)行研究，從而獲得石墨烯片的質(zhì)量信息。

關(guān)聯(lián)顯微鏡顆粒度分析 - 更豐富的圖像信息、更高的圖像質(zhì)量。

表征對(duì)工藝流程起決定性作用的顆粒。關(guān)聯(lián) Particle Analyzer 將光學(xué)顯微鏡與電子顯微鏡兩者的分析數(shù)據(jù)相結(jié)合。使用光學(xué)顯微鏡檢測(cè)到顆粒后，您可以借助蔡司關(guān)聯(lián)顯微鏡顆粒度分析自動(dòng)完成顆粒的重定位和 EDX 分析。它是完整表征殘留顆粒的理想方法。

關(guān)聯(lián) Particle Analyzer 會(huì)以報(bào)告的形式自動(dòng)記錄光學(xué)顯微鏡和電子顯微鏡兩者的分析結(jié)果。關(guān)聯(lián)顯微鏡顆粒度分析儀比單獨(dú)先使用光學(xué)顯微鏡然后再使用電子顯微鏡的分析方案速度要快 10 倍多。

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