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RIE-3反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

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更新時間：2022-12-06 15:45:47瀏覽次數(shù)：286次

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北京金盛微納科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

本產(chǎn)品通過物理與化學(xué)相結(jié)合的方法，對很細(xì)的線條（亞微米以下）進(jìn)行刻蝕以形成精細(xì)的圖形

詳細(xì)介紹

本產(chǎn)品通過物理與化學(xué)相結(jié)合的方法，對很細(xì)的線條（亞微米以下）進(jìn)行刻蝕以形成精細(xì)的圖形。

詳細(xì)描述

本設(shè)備具有選擇比較好、刻蝕速度較快、重復(fù)性好、性價比較高等特點(diǎn)。可刻蝕的材料主要有Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等。

本設(shè)備主要用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。

產(chǎn)品主要性能指標(biāo)

型號	RIE-3
真空系統(tǒng)	分子泵機(jī)組
刻蝕室數(shù)量	單室
刻蝕室規(guī)格	?300×100mm
電極尺寸	?200mm
刻蝕材料	Poly-Si、Si、SiO₂、Si₃N₄、W、Mo、GaN、GaAs等。
刻蝕速率	0.1 – 1 μ/min （與刻蝕材料和工藝有關(guān)）
刻蝕不均勻性	≤±5%
操作方式	手動