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行業(yè)產(chǎn)品

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低溫等離子設(shè)備

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產(chǎn)品型號

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更新時(shí)間：2024-02-21 13:59:18瀏覽次數(shù)：267次

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產(chǎn)品簡介

型號：HPDL-15處理風(fēng)量：15000m3/h外形尺寸：350013501000mm進(jìn)出口尺寸：1000760mm電場數(shù)量：12個(gè)高壓電源數(shù)量：3套功率（KW）：1.5

詳細(xì)介紹

低溫等離子設(shè)備工藝概述
/ Process Overview
 
低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來的廢氣處理新技術(shù)，低溫等離子體處理廢氣的原理為：當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的。
低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為：在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量高能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變?yōu)闊o毒無害或低毒低害物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在1eV～10eV，適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實(shí)現(xiàn)一般情況下難以實(shí)現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分快速。
電場的設(shè)計(jì)使廢氣粒子的運(yùn)動速度較低，一般在零點(diǎn)幾秒內(nèi)便能使廢氣粒子荷上足夠的電荷，帶電粒子在電場中會受到電場力（庫侖力）的作用，其結(jié)果是油煙粒子被吸附到陽極上。因此凈化率非常高，而且特別適用于捕捉粒徑較小和重量較輕的廢氣粒子。
低溫等離子設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)
/ Product parameters

 

型號 處理風(fēng)量（m3/h） 外形尺寸（長×寬×高）mm 進(jìn)出口尺寸（寬×高）mm 電場數(shù)量（個(gè)） 高壓電源數(shù)量（套） 功率（KW） 交流電壓（V） 設(shè)備重量（T） 風(fēng)阻（Pa）
HPDL-05 5000 1300×1350×1000 1000×760 4 1 0.5 220 0.30 ≦100
HPDL-10 10000 2400×1350×1000 1000×760 8 2 1 220 0.55 ≦100
HPDL-15 15000 3500×1350×1000 1000×760 12 3 1.5 220 0.85 ≦100
HPDL-20 20000 2400×1350×1800 1000×1600 16 4 2 220 1.15 ≦100
HPDL-30 30000 3500×1350×1800 1000×1600 24 6 3 220 1.60 ≦200
HPDL-40 40000 4600×1350×1800 1000×1600 32 8 4 220 2.15 ≦200
HPDL-50 50000 5700×1350×1800 1000×1600 40 10 5 220 2.70 ≦200
HPDL-60 60000 3500×2700×1800 2080×1600 48 12 6 220 3.2 ≦200
HPDL-80 80000 4600×2700×1800 2080×1600 64 16 8 220 4.4 ≦250
HPDL-90 90000 3500×2700×2640 2080×2440 72 18 9 220 5.0 ≦400
HPDL-100 100000 5700×2700×1800 2080×1600 80 20 10 220 5.50 ≦300

 

低溫等離子設(shè)備工藝流程
/ Technological process
 

 

 

 

廢氣處理設(shè)備-低溫等離子設(shè)備-工藝流程圖

低溫等離子設(shè)備產(chǎn)品特點(diǎn)
/ Product features
 
高效的處理效果
運(yùn)行費(fèi)用低
維護(hù)方便
模塊化
占地面積小
 
廢氣處理設(shè)備-低溫等離子設(shè)備-產(chǎn)品圖
 

關(guān)鍵詞：高壓電源

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