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EDX系列x熒光光譜儀

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更新時間：2023-10-20 10:55:23瀏覽次數(shù)：274次

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產(chǎn)品簡介

EDX系列x熒光光譜儀，能量色散X射線熒光光譜儀應用于RoHS WEEE指令分析、各種金屬膜厚度測量、工業(yè)鍍層厚度測量、鹵素指令Cl元素分析、礦石、原材料成份分析等、磁性磁性介質和半導體以及各種合金、貴金屬成份分析.

詳細介紹

EDX系列x熒光光譜儀，能量色散X射線熒光光譜儀應用于RoHS & WEEE指令分析、各種金屬膜厚度測量、工業(yè)鍍層厚度測量、鹵素指令Cl元素分析、礦石、原材料成份分析等、磁性磁性介質和半導體以及各種合金、貴金屬成份分析.
EDX系列x熒光光譜儀主要特點
●分析元素范圍　S-U

●分析元素的濃度范圍　2ppm—99%
●整機穩(wěn)定性連續(xù)8小時測RSD<0.25%
● ROHS/WEEE檢測時間100-120秒

●美國進口電制冷Si（Pin）探測器

●電制冷Si（Pin）探測器晶體面積15mm2分辨率<155eV
●全數(shù)字脈沖處理器技術

●優(yōu)異的峰背比、的痕量分析靈敏度

● 50KV,50W自防護X-射線管

●復合濾光片智能切換技術

特征：

☆可分析精確分析氯元素和油漆中的鉛

☆集成FP法，Alpha系數(shù)法、經(jīng)驗系數(shù)法

☆安全聯(lián)動裝置，軟硬結合的輻射設計

☆操作簡單、一鍵式操作

☆智能軟件自動參數(shù)設定和選擇濾光片

☆ X射線管超溫保護

☆電子冷卻，無需液氮和其它耗材

技術規(guī)格

儀器型號		EDX-1800x熒光光譜儀
分析原理		能量色散X射線熒光分析法
分析范圍		S（16）-U（92）任意元素
檢出下限		Cl/Cd/Hg/Br/Cr/Pb≤2 ppm
樣品形狀		任意大小，任何不規(guī)則形狀
樣品類型		塑膠/金屬/薄膜/粉末/液體等
X射線管	靶材	鉬（Mo）靶
	管電壓	5─50KV
	管電流	1─1000ｕA
探測器		美國AMP-TEK Si-PIN探測器，高速脈沖高度分析系統(tǒng)
高壓發(fā)生器		美國SPELLMAN高壓發(fā)生器
濾光片		智能濾光片自動選擇并自動轉換
樣品觀察		500萬彩色攝像機
分析軟件		升級
分析方法		Alpha系數(shù)法（NBS-GSC法）、FP法、標準曲線法
符合規(guī)范		IEC62321、 SNT 2003.4-2006 、SNT 2003.5-2006