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小型濺射儀鄭科探

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更新時(shí)間：2024-05-03 08:43:19瀏覽次數(shù)：225次

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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠(chǎng)家

商鋪產(chǎn)品：582條

所在地區(qū)：河南鄭州市

聯(lián)系人：陳先生（銷(xiāo)售）

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD 該產(chǎn)品為臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī)，能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，

詳細(xì)介紹

小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD

離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀(guān)測(cè)效率，另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

磁控濺射優(yōu)點(diǎn)

（1）沉積速率快，沉積效率高，適合工業(yè)生產(chǎn)大規(guī)模應(yīng)用；

（2）基片溫度低，適合塑料等不耐高溫的基材鍍膜；

（3）制備的薄膜純度高、致密性好、薄膜均勻性好、膜基結(jié)合力強(qiáng)；

（4）可制備金屬、合金、氧化物等薄膜；

小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD廠(chǎng)家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)；

控制方式	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類(lèi)型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺(tái)	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測(cè)量	皮拉尼真空計(jì)（已安裝測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口