污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)品清洗用超純水設(shè)備 型號(hào)：LRO-UP-1000 操作壓力：1.0Mpa（Mpa） 水電阻率：18MΩ·cm 出水量：500L/H 外形尺寸：160*100*160（cm） 電壓：380（V 功率：380（w） 電導(dǎo)率：0.06 脫鹽率：99.2（%） 超純水設(shè)備是既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除
半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)品清洗用超純水設(shè)備
型號(hào)：LRO-UP-1000
操作壓力：1.0Mpa（Mpa）
水電阻率：18MΩ·cm
出水量：500L/H
外形尺寸：160*100*160（cm）
電壓：380（V
功率：380（w）
電導(dǎo)率：0.06
脫鹽率：99.2（%）
超純水設(shè)備是既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中，如其中混入雜質(zhì)，就會(huì)影響電子的發(fā)射，進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會(huì)引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃動(dòng)并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。因此水的質(zhì)量相當(dāng)重要。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
EDI高純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠(chǎng)的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用高純水。
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