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行業(yè)產(chǎn)品

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武漢賽斯特精密儀器有限公司


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等離子清洗機(jī)價(jià)格 超聲波清洗設(shè)備

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地武漢市

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更新時(shí)間:2023-03-30 09:39:52瀏覽次數(shù):1702次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
槽數(shù) 其他 類型 其他
適用領(lǐng)域 化工 用途 其他

PLUTO-M等離子清洗機(jī):等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,同時(shí)具備物理清洗和化學(xué)清洗能力。

詳細(xì)介紹

等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,同時(shí)具備物理清洗和化學(xué)清洗能力。

電源功率為200W,覆蓋常規(guī)處理需求

創(chuàng)新設(shè)計(jì),可調(diào)整電極之間距離,調(diào)整等離子體濃度和強(qiáng)度,極大提升處理效率和能力

真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼,電極6061鋁合金,配件材質(zhì)精良,保證設(shè)備穩(wěn)定高效運(yùn)行

樣品處理面積可達(dá)125mm(大處理面積可達(dá)200mm,如有需求請(qǐng)咨詢銷售人員)

4.3寸工業(yè)級(jí)觸摸屏,操作簡(jiǎn)單,可設(shè)置多種實(shí)驗(yàn)參數(shù)

性能穩(wěn)定可靠,質(zhì)量穩(wěn)定,自主研發(fā),售后有保障

 

產(chǎn)品參數(shù):

1. 真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L

2. 電極:兩個(gè)自適應(yīng)平板電極,材質(zhì)T6061鋁合金

3. 電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)

4. 等離子體發(fā)生器:RF射頻發(fā)生器,頻率:13.56MHz

5. 功率:0-200W連續(xù)可調(diào),精度1W

6. 氣體控制:針式氣體流量閥,標(biāo)配1路氣體

7. 控制方式:4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

控制軟件功能:界面顯示實(shí)時(shí)工作狀態(tài),

可顯示設(shè)置值與實(shí)際值,便于實(shí)時(shí)控制。

可自由設(shè)置等離子功率,通入氣體時(shí)間

全手動(dòng)控制和全自動(dòng)控制可選

8. 保護(hù)裝置:一鍵急停保護(hù)按鈕

 

等離子體表面處理系統(tǒng)Pluto-M?參數(shù)(標(biāo)準(zhǔn)配置)

外部尺寸

404*640*515mm

 

真空腔尺寸

直徑210mm*230mm

不銹鋼腔體

電極尺寸

125*125mm

多空自適應(yīng)平板電極

等離子體發(fā)生器

RF射頻發(fā)生器,頻率:13.56MHz

自適應(yīng)阻抗匹配電源

功率

0-200W連續(xù)可調(diào)

精度1W

真空計(jì)

熱電偶真空計(jì) 0-1000mT

 

供氣

1路氣體

6mm國(guó)標(biāo)連接件(軟管)

控制方式

4.3寸觸摸屏

 

可 選 配 置

ALC

純鋁腔體

 

RF-300

等離子體發(fā)生器

頻率13.56MHz ,0-300W自動(dòng)阻抗匹配電源

可調(diào)電極

可調(diào)節(jié)電極間距

電極間距20-60mm可調(diào),改變等離子體場(chǎng)濃度特性

CM裝置

沉積鍍膜模塊

用于改變表面特性:

1.    沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性

2.    沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性

3.    沉積含有羥基的材料,提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果。

GP裝置

氣體純化裝置

 

PPU

粉體處理裝置

用于處理微納米級(jí)別顆粒

 

氣體收集裝置

用于收集等離子體化學(xué)反應(yīng)后的氣體

 

小型氧氣發(fā)生器

用于制備氧氣,可取代氧氣罐

 

氣體混合裝置

可以根據(jù)可以要求進(jìn)行混氣設(shè)計(jì)

 

感應(yīng)耦合模塊

感應(yīng)耦合等離子體裝置

 

加熱電極模塊

電極可以加熱,室溫~200度可調(diào)。

 

光譜儀模塊

可以增加光譜儀的接口,檢測(cè)等離子體光譜變化

 

電極轉(zhuǎn)換模塊

可以自由變換電極設(shè)計(jì),樣品可以放在射頻電極上,也可以放在地電極上。從而實(shí)現(xiàn)不同的處理效果。


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