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光學(xué)元件拋光不均勻檢測用光源介紹

時間:2022/5/9閱讀:1172
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光學(xué)元件拋光不均勻檢測用光源介紹

高亮度鹵素光源裝置是用于宏觀觀察的照明裝置,用于檢測終成品表面上的各種缺陷,如異物、劃痕、拋光不均勻、霧度、滑移等,是加工過程中勞動強度的一種。半導(dǎo)體晶片和液晶基板的加工。

概述

  1. 樣品表面可照射到 400,000 Lx 以上。

  2、由于采用鹵素?zé)糇鳛楣庠矗珳馗?,光照不均勻少,光?/span>
    非常穩(wěn)定銳利。

  3、采用冷鏡,熱量的影響極小
    ,僅為傳統(tǒng)鋁鏡的1/3。

  4. 兩段式切換機構(gòu),一
    鍵切換強光觀察和弱光觀察。
    YP-150I ? ? ? 照度范圍 φ30
    YP-250I ? ? ? 照度范圍 φ60
   ?。╕P-250I 可以從螺旋槳風(fēng)扇型和管道風(fēng)扇型中選擇。)



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