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活性氧離子除臭設(shè)備 HLZ-AOE-II

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更新時(shí)間：2020-03-22 14:04:39瀏覽次數(shù)：648次

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宜興市豪澋環(huán)保設(shè)備有限公司

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活性氧離子除臭設(shè)備 HLZ-AOE-II：凈化效率：在2～10mg／m3濃度范圍內(nèi)，H2S去除率大于90％，氨氣去除率大于90％；在1～2mg／m3濃度范圍內(nèi)，甲苯去除率大于85％，苯去除率大于85％；在1h范圍內(nèi)，細(xì)菌去除率達(dá)到90％以上。

詳細(xì)介紹

活性氧離子除臭設(shè)備 HLZ-AOE-II原理
通過(guò)前沿陡峭、脈寬窄（納秒級(jí)）的高壓脈沖電暈放電，在常溫常壓下獲得非平衡等離子體，即產(chǎn)生大量高能電子、02、02-、02 、O、O2H等活性粒子（稱其為“活性氧”），對(duì)有機(jī)物分子進(jìn)行氧化降解反應(yīng)，使污染物zui終轉(zhuǎn)化為無(wú)害物。
活性氧（AOE）技術(shù)利用上述原理，產(chǎn)生高密度的高能活性氧（AO），迅速與有機(jī)廢氣和惡臭中的污染物進(jìn)行碰撞、激活并直接破壞污染物，發(fā)生一系列鏈?zhǔn)椒磻?yīng)，將污染物降解成二氧化碳和水以及其他小分子。
活性氧離子除臭設(shè)備 HLZ-AOE-II特點(diǎn)
1．高穩(wěn)定性、長(zhǎng)壽命納米催化觸媒材料和納米波長(zhǎng)電光源的研制；
2．材料和加工工藝的確定；
3．PIC控制系統(tǒng)的反饋設(shè)計(jì)，廢氣濃度和等離子體放電參數(shù)的算法；
4．反應(yīng)室結(jié)構(gòu)的優(yōu)化設(shè)計(jì)，脈沖電源與反應(yīng)器的匹配，整機(jī)結(jié)構(gòu)和工藝參數(shù)的匹配。典型規(guī)模惡臭氣體處理風(fēng)量5500m3／h

活性氧凈化除臭設(shè)備適用處理的氣體有
有機(jī)污染物；“三苯”：苯、甲苯、二甲苯；
其他有機(jī)溶劑：甲醛、丙酮、酒精、以及其他醇、醛、酮、酚類等；
空氣污染物：煙味、二氧化硫、煤氣、福爾馬林、細(xì)菌；
各類惡臭物質(zhì)：甲硫醇、硫化氫、氨、甲酸、乙酸及有機(jī)胺

凈化效率：在2～10mg／m3濃度范圍內(nèi)，H2S去除率大于90％，氨氣去除率大于90％；在1～2mg／m3濃度范圍內(nèi)，甲苯去除率大于85％，苯去除率大于85％；在1h范圍內(nèi)，細(xì)菌去除率達(dá)到90％以上。