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X射線光電子能譜儀

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更新時(shí)間：2021-08-26 11:17:55瀏覽次數(shù)：663次

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廣州化聯(lián)質(zhì)量檢測(cè)技術(shù)有限公司

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原理X射線光電子能譜（XPS），基于光電離作用，當(dāng)一束光子輻射到樣品表面時(shí)，光子可以被樣品中某一元素的原子軌道上的電子所吸收，使該原子解脫原子核的束縛，以一定的動(dòng)能從原子內(nèi)部發(fā)射出來(lái)

詳細(xì)介紹

原理

X射線光電子能譜（XPS），基于光電離作用，當(dāng)一束光子輻射到樣品表面時(shí)，光子可以被樣品中某一元素的原子軌道上的電子所吸收，使該原子解脫原子核的束縛，以一定的動(dòng)能從原子內(nèi)部發(fā)射出來(lái)，變成自由的光電子，而原子本身則變成一個(gè)激發(fā)態(tài)的離子。當(dāng)固定激發(fā)源能量時(shí)，其光電子的能量?jī)H與元素的種類和所電離激發(fā)的原子軌道有關(guān)，由此根據(jù)光電子的結(jié)合能定性分析物質(zhì)的元素種類。經(jīng)X射線輻照后，從樣品表面射出的光電子的強(qiáng)度與樣品中該原子的濃度呈線性關(guān)系，可以進(jìn)一步進(jìn)行元素的半定量分析。另外，XPS的重要應(yīng)用是對(duì)元素的化學(xué)價(jià)態(tài)進(jìn)行分析。

X-射線光電子能譜儀，是一種表面分析技術(shù)，主要用來(lái)表征材料表面元素及其化學(xué)狀態(tài)。其基本原理是使用X-射線，如Al Ka =1486.6eV，與樣品表面相互作用，利用光電效應(yīng)，激發(fā)樣品表面發(fā)射光電子，利用能量分析器，測(cè)量光電子動(dòng)能(K.E)，根據(jù)B.E=hv-K.E-W.F，進(jìn)而得到激發(fā)電子的結(jié)合能（B.E)。

儀器技術(shù)參數(shù)

1 極限能量分辨率為0.43eV;

2 分析室真空度優(yōu)于5×10-10 mbar;

3 能量分析范圍為0-5000eV;

4 通過(guò)能范圍為1-400eV；

5 固體樣品的表面成分分析、化學(xué)態(tài)分析，取樣深度一般約為1-10nm,其中金屬材料為0.5-3nm，無(wú)機(jī)材料2-4nm，有機(jī)高聚物5-10nm。

檢測(cè)項(xiàng)目

在化學(xué)、材料科學(xué)及表面科學(xué)中具有廣泛的應(yīng)用價(jià)值。

為有機(jī)化合物結(jié)構(gòu)分析提供信息，配合進(jìn)行化合物定性定量分析，廣泛應(yīng)用于有機(jī)化合物、農(nóng)藥、及生物大分子結(jié)構(gòu)與性能研究。主要應(yīng)用于有機(jī)化合物的結(jié)構(gòu)分析；化工產(chǎn)品分析；工業(yè)助劑分析；有機(jī)成份分析等。

送樣要求：

1.粉末測(cè)試需要量一般不小于0.2 毫升或者10毫克，樣品需干燥;

2.固體樣品尺寸塊狀5*5mm，厚度盡量低于4mm，表面須平整，樣品需干燥;

3.液體樣須滴在鋁箔或者硅片等載體上烘干形成液膜，一般重復(fù)3-5次烘干滴液差不多即可測(cè)不到基底;

4.材料必須是無(wú)放射性、無(wú)毒性、無(wú)揮發(fā)性物質(zhì)(如單質(zhì)Na, K, S, P, Zn, Se, As, I, Te, Hg等);

5.磁性樣品(可以測(cè)試)請(qǐng)送樣時(shí)告知;

6. 元素窄譜如果有特殊要求請(qǐng)備注，如果沒(méi)有特殊說(shuō)明，默認(rèn)測(cè)試峰，如果峰和其他元素的峰有重疊，默認(rèn)測(cè)試次強(qiáng)峰。

7. 小于1%的元素可能測(cè)不出明顯信號(hào)；

常見(jiàn)圖譜：