等離子增強化學氣相沉積真空鍍膜設備

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參考價: ￥ 178000

訂貨量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號PE-CVD

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廠商性質生產(chǎn)商

所在地北京市

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更新時間：2025-05-30 10:29:34瀏覽次數(shù)：649次

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產(chǎn)品分類 品牌分類

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北京維意真空技術應用有限責任公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：71條

所在地區(qū)：北京北京市

聯(lián)系人：于磊（銷售部經(jīng)理）

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地	國產(chǎn)	爐膛直徑	60mm
溫度	1200℃	溫區(qū)數(shù)量	3個
射頻電源功率	300W	質量流量計	3個
極限真空度	1Pa

等離子增強化學氣相沉積真空鍍膜設備
PECVD系統(tǒng)就是為了使傳統(tǒng)的化學氣象沉積(CVD)反應溫度降低，在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離，形成等離子體，利用等離子體的活性來促進反應，所以這個系統(tǒng)稱為增強型化學氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)

詳細介紹

等離子增強化學氣相沉積真空鍍膜設備

PECVD系統(tǒng)就是為了使傳統(tǒng)的化學氣象沉積(CVD)反應溫度降低，在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離，形成等離子體，利用等離子體的活性來促進反應，所以這個系統(tǒng)稱為增強型化學氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)。

　　該型號PECVD為單溫區(qū)系列款，綜合了國內(nèi)大多數(shù)廠家的管式PECVD系統(tǒng)的優(yōu)點，成膜質量好，針孔較少，不易龜裂。而且控制部分采用了維意自主研發(fā)的實驗電爐AIO全自動智能控制系統(tǒng)，使得操作更加簡便，功能更加強大。

　　主要特點：

　　1. AIO控制系統(tǒng)——加熱控制、等離子射頻控制、氣體流量控制、真空系統(tǒng)控制集中于一個7英寸觸摸屏進行統(tǒng)一集中調(diào)節(jié)和操控，協(xié)調(diào)控制;

　　2. 管內(nèi)壓力自動平衡——管內(nèi)壓力實時監(jiān)測，自動平衡管內(nèi)壓力。

　　3. 智能氣路通斷——每路氣體均可定時通斷，省時省力;

　　4. 射頻功率和開關定時控制——預先設定好功率的大小和打開與關閉的時間，自動運行;

　　5. 爐膛移動速度可調(diào)——根據(jù)實驗要求，用戶可設定爐膛左右移動的速度可距離;

　　6. 整機結構融為一體——移動方便，避免分散組裝的困擾。

等離子增強化學氣相沉積真空鍍膜設備