污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
北京維意真空技術(shù)應用有限責任公司
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更新時間：2017-04-19 22:58:39瀏覽次數(shù)：1188次
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北京維意真空技術(shù)應用有限責任公司
一、設(shè)備概述：
? ? ? ?PE-ALD等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)是專門為特殊應用領(lǐng)域的科學研究與工業(yè)開發(fā)用戶而設(shè)計的單片沉積系統(tǒng)，系統(tǒng)電氣*符合CE標準；該系統(tǒng)擴展了普通原子層沉積系統(tǒng)對前驅(qū)體源的選擇范圍、提高薄膜沉積速率和降低沉積溫度，廣泛應用于對溫度敏感材料和柔性襯底上薄膜的沉積。
二、*的軟件控制系統(tǒng)：系統(tǒng)集工藝配方、參數(shù)設(shè)備于一體。
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一、設(shè)備概述：? ? ? ?PE-ALD等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)是專門為特殊應用領(lǐng)域的科學研究與工業(yè)開發(fā)用戶而設(shè)計的單片沉積系統(tǒng)，系統(tǒng)電氣*符合CE標準；該系統(tǒng)擴展了普通原子層沉積系統(tǒng)對前驅(qū)體源的選擇范圍、提高薄膜沉積速率和降低沉積溫度，廣泛應用于對溫度敏感材料和柔性襯底上薄膜的沉積。二、產(chǎn)品優(yōu)勢：? ? ? *的軟件控制系統(tǒng)：系統(tǒng)集工藝配方、參數(shù)設(shè)置、權(quán)限設(shè)定、互鎖報警、狀態(tài)監(jiān)控等功能于一體.三、技術(shù)指標：? ? ? ?基片尺寸 8英寸及以下? ?基片加熱溫度 室溫～500℃，控制精度±0.1℃? ?前驅(qū)體輸運系統(tǒng) 標準3路前驅(qū)體管路，可選配? ?前驅(qū)體管路溫度 室溫～200℃，控制精度±0.1℃? ?源瓶加熱溫度 室溫～200℃，控制精度±0.1℃? ? ALD閥 Swagelok快速高溫ALD閥? ? 本底真空 ＜5*10-5Torr，進口防腐泵? ? 載氣系統(tǒng) N2或者Ar? ? 生長模式 高速沉積模式和停留生長模式? ? 等離子體源 300W 感應耦合遠程等離子體? ? 等離子體放電氣源 標準3路，可選配? ? 控制系統(tǒng) PLC+觸摸屏或者顯示器? ? 電源 50-60Hz, 220V/20A交流電源? ? 沉積非均勻性 非均勻性＜±1%? ? 設(shè)備尺寸 1000mm x 750mm x 1600mm四、可沉積薄膜種類：? ? ?? 單 質(zhì)：Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe…? ?氮化物：TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN …? ?氧化物：TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2…? ?其它化合物：GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3,SrTaO6…五、ALD應用實例：
高K柵氧化層，存儲容性電介質(zhì)，銅互連中高深寬比擴散阻擋層，OLED無針孔鈍化層，MEMS的高均勻鍍膜，納米多孔結(jié)構(gòu)鍍膜，特種光纖摻雜，太陽能電池，平板顯示器，光學薄膜，其它各類特殊結(jié)構(gòu)納米薄膜
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