粉末顆粒壓潰力試驗(yàn)機(jī)主要用于制備的小樣品的力學(xué)性能測試，特別是材料和生物領(lǐng)域，幾毫米甚至1毫米以下的樣品非常常見，另外很多樣品很軟，測試的力度只需要幾十微牛。微小力值測試儀主要對材料進(jìn)行拉伸、壓縮、彎曲、剪切、剝離、撕裂等試驗(yàn)，可以精密求取抗拉力、抗拉強(qiáng)度、斷裂強(qiáng)度、初始模量、斷裂伸長率、應(yīng)力應(yīng)變、屈服強(qiáng)度的測定，以及些產(chǎn)品的特殊試驗(yàn)。三閉環(huán)測控可以實(shí)現(xiàn)反復(fù)循環(huán)和低周疲勞測試等。試驗(yàn)過程中，微機(jī)實(shí)時采集力值和變形信號，軟件顯示“力值—位移”曲線，試驗(yàn)結(jié)束后，自動計算，保存參數(shù)，并可打印出實(shí)驗(yàn)報告。
粉末顆粒壓潰力試驗(yàn)機(jī)用于測試粒徑為5μm~50μm的球形、類球形或不規(guī)則形粉末抗壓強(qiáng)度的測定。
粉末顆粒隨壓力的增加發(fā)生變形直至被壓潰。記錄試驗(yàn)力與壓縮位移的關(guān)系曲線，粉末壓潰時的試驗(yàn)力為顆粒的壓潰力Fyk。根據(jù)粉末顆粒的粒徑d計算出顆粒的受力面積，進(jìn)而計算出粉末顆?？箟簭?qiáng)度。
微小壓縮試驗(yàn)機(jī)，配備10倍及以上倍數(shù)的目鏡和物鏡，試驗(yàn)力加載精度優(yōu)于試驗(yàn)力的1%,位移精度優(yōu)于0.01d。
粉末顆粒壓潰力試驗(yàn)機(jī)技術(shù)參數(shù)：
1.產(chǎn)品規(guī)格：HY-0230
2.精度等級：0.5級
3.微力負(fù)荷：0.5N1N5N10N20N50N100N(任選或多選)
4.有效測力范圍：0.1/100-99.999%;
5.試驗(yàn)力分辨率，負(fù)荷±500000碼；內(nèi)外不分檔，且全程分辨率不變。
6.位移分辨率：0.0001mm
7.變形分辨率：0.0001mm
8.有效試驗(yàn)寬度：120mm
9.有效試驗(yàn)空間：300mm
10.試驗(yàn)速度：：0.001~300mm/min(任意調(diào))
11.速度精度：示值的±0.5%以內(nèi)；
12.位移測量精度：示值的±0.5%以內(nèi)；
13.變形測量精度：示值的±0.5%以內(nèi)；
14.應(yīng)力控速率范圍：0.005%～6%FS/S
15.應(yīng)力控速率精度：速率<0.05%FS/S時，為設(shè)定值的±1%以內(nèi)；速率≥0.05%FS/S時，為設(shè)定值的±0.5%以內(nèi)；
16.應(yīng)變控速率范圍：0.002%～6%FS/S
17.應(yīng)變控速率精度：速率<0.05%FS/S時，為設(shè)定值的±2%以內(nèi)；速率≥0.05%FS/S時，為設(shè)定值的±0.5%以內(nèi)；
18.恒力/位移/變形測量范圍：0.5%～99.999%FS
19.恒力/位移/變形測量精度：設(shè)定值<10%FS時，為設(shè)定值的±1%以內(nèi)；設(shè)定值≥10%FS時，為設(shè)定值的±0.1%以內(nèi)；
20.試臺升降裝置：快/慢兩種速度控制，可點(diǎn)動；
21.試臺安全裝置：電子限位保護(hù)
22.試臺返回：手動可以高速度返回試驗(yàn)初始位置，自動可在試驗(yàn)結(jié)束后自動返回；
23.試驗(yàn)定時間自動停車，試驗(yàn)定變形自動停車，試驗(yàn)定負(fù)荷自動停車
24.超載保護(hù)：超過大負(fù)荷10%時自動保護(hù)；
25.自動診斷功能，定時對測量系統(tǒng)、驅(qū)動系統(tǒng)進(jìn)行過載、過壓、過流、超負(fù)荷等檢查，出現(xiàn)異常情況立即進(jìn)行保護(hù)
26.電源功率：400W
27.主機(jī)重量：40kg
28.電源電壓：220V(單相)
29.主機(jī)尺寸：430*315*855mm
抗壓強(qiáng)度的測試按以下步驟進(jìn)行：
a)按照GB/T19077的規(guī)定測定粉末的粒度分布，確定粉末的中位粒徑(D50);
b)使用柔軟的無塵布或潔凈紙對試驗(yàn)平臺及壓頭進(jìn)行清理;
c)開啟設(shè)備系統(tǒng)，運(yùn)行30min;
d)將待測粉末均勻鋪散在試驗(yàn)平臺上;
e)將試驗(yàn)平臺轉(zhuǎn)移至微小壓縮試驗(yàn)機(jī)物鏡下并固定，根據(jù)樣品特性設(shè)置合適的加載壓力和加載速率;
f)調(diào)整試驗(yàn)平臺位置，觀察平面壓頭視區(qū)內(nèi)的顆粒，選擇有代表性目標(biāo)粒徑(與D50相近)的顆粒;
g)調(diào)整目鏡或物鏡倍數(shù)，使單一個顆粒位于平面壓頭視區(qū)中心，微調(diào)試驗(yàn)平臺高度，使目標(biāo)顆粒邊緣清晰，測量顆粒粒徑;
h)再次微調(diào)試驗(yàn)平臺高度，使目標(biāo)顆粒移動至頂點(diǎn)并聚焦，移動試驗(yàn)平臺至平面壓頭下，測試并獲得試驗(yàn)力與壓縮位移曲線;
i)測試顆粒數(shù)不少于5個，也可按照實(shí)際需求選擇測試顆粒數(shù)。
試驗(yàn)條件：溫度為25℃±3℃，相對濕度不大于60%。試驗(yàn)過程應(yīng)無振動和對流空氣的影響。
