化學鍍鎳不同于電化學鍍，其在不導電的情況下依靠不同化合物之間的氧化還原反應進行鍍膜的生成，使鍍層的均勻性及耐蝕性等方面顯現(xiàn)出較突出的*性，同時產(chǎn)生的廢水也相對難處理，需采用專門的除鎳劑。

一般情況下，電鍍廢水中的鎳離子可直與氫氧化物反應生成沉淀，而化學鎳廢水中由于使用了大量絡(luò)合劑，使得鎳離子被穩(wěn)固在絡(luò)合劑中，形成了絡(luò)合鎳，再加堿沉淀便失去了效果，無法處理達標。因此，對含化學鎳生產(chǎn)線的多股廢水需使用除鎳劑進行分支分流單獨處理，否則鎳離子不能*達標。

       化學鎳廢水中的絡(luò)合鎳可以通過氧化破絡(luò)釋放鎳離子進而沉淀，然而破絡(luò)工藝成本較高、難度較大、效果較差，因此可采用有針對性的高效除鎳劑HMC-M2進行去除，采用鎳離子螯合反應沉淀原理，將絡(luò)合形態(tài)的鎳離子直接剝離后形成不溶性沉淀去除。