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碳納米管溶液研磨分散機

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更新時間：2017-10-24 15:04:42瀏覽次數(shù)：403次

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上海依肯機械設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡介

碳納米管溶液研磨分散機CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。

詳細(xì)介紹

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碳納米管不總是筆直的，局部可能出現(xiàn)凹凸的現(xiàn)象，這是由于在六邊形結(jié)構(gòu)中混雜了五邊形和七邊形。出現(xiàn)五邊形的地方，由于張力的關(guān)系導(dǎo)致碳納米管向外凸出。如果五邊形恰好出現(xiàn)在碳納米管的頂端，就形成碳納米管的封口。出現(xiàn)七邊形的地方碳納米管則向內(nèi)凹進。

碳納米管溶液可以做：

①超級電容器

② 催化劑載體

③儲氫材料等等

碳納米管溶液分散的難點是:

碳納米管除具有一般納米粒子的尺寸效應(yīng)外，還具有力學(xué)強度大、柔韌性好、電導(dǎo)率高等*的性質(zhì)，成為聚合物復(fù)合材料理想的增強體，在化工、機械、電子等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。但由于碳納米管易聚集成束或纏繞，而且與其他納米粒子相比，其表面是相對“惰性"的，在常見的有機溶劑或聚合物材料中的分散度低，這*地制約了其廣泛應(yīng)用。因此，對碳納米管的表面進行改性已成為聚合物 /碳納米管復(fù)合材料的研究熱點之一。目前，國內(nèi)外對碳納米管表面改性的研究主要是在其表面引入共價鍵和非共價鍵基團，例如采用表面化學(xué)反應(yīng)改性、表面活性劑改性等，或采用聚合物分子對碳納米管進行包覆改性等方法.近年來。還提出了紫外線照射、等離子射線改性等處理方法。表面改性的碳納米管用于聚合物復(fù)合材料可以顯著改善材料的力學(xué)性能、電性能和熱性能等。

CMD2000系列研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

（價格電議，咨詢請，包建振，公司有樣機供客戶購前實驗）

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

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CMD2000系列研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列設(shè)備選型表

型號	流量 L/H	轉(zhuǎn)速 rpm	線速度 m/s	功率 kw	入/出口連接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150