有效攔截大顆粒,不改變原有顆粒分布
專為半導體廠 CMP 工藝點位 Slurry 的過濾設計??舍槍Σ煌?Slurry 成分以及客戶工藝差異點組合搭配合理的濾材,更科學的濾材搭配使得產(chǎn)品有效攔截大顆粒的同時不會改變原有 Slurry 的顆粒分布。
產(chǎn)品特色
- 更高的濾效與更長的濾芯壽命
- 濾芯搭配多樣化
- 拆裝便捷省時間
典型應用
- 半導體 Slurry 過濾
有效攔截大顆粒,不改變原有顆粒分布
專為半導體廠 CMP 工藝點位 Slurry 的過濾設計??舍槍Σ煌?Slurry 成分以及客戶工藝差異點組合搭配合理的濾材,更科學的濾材搭配使得產(chǎn)品有效攔截大顆粒的同時不會改變原有 Slurry 的顆粒分布。
產(chǎn)品特色
- 更高的濾效與更長的濾芯壽命
- 濾芯搭配多樣化
- 拆裝便捷省時間
典型應用
- 半導體 Slurry 過濾
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