掃描電子顯微鏡
Apreo
功能豐富的高性能 SEM
Apreo 復合透鏡設(shè)計結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù)，可產(chǎn)生高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的研究平臺，并且不會降低磁性樣品性能。
Apreo 受益于透鏡內(nèi)背散射探測，這種探測提供很好的材料對比度，即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時也不例外。新型復合透鏡通過能量過濾進一步提高了對比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾。可選低真空模式現(xiàn)在的樣品倉壓力為 500 Pa，可以對要求嚴苛的絕緣體進行成像。
通過這些優(yōu)勢（包括復合末級透鏡、高級探測和靈活樣品處理），Apreo 可提供出色的性能和多功能性，幫助您應對未來的研究難題。
Apreo 材料科學應用新的 Apreo 掃描電子顯微鏡 (SEM) 可對納米顆粒、金屬、復合材料和涂層等多種材料進行檢測，并且整合了創(chuàng)新功能，可提供更好的分辨率、對比度和易用性。
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體驗 Apreo SEM 帶來的優(yōu)勢
- 復合末級透鏡可在任何樣品（即使在傾斜時或進行地形測量時）上提供優(yōu)異的分辨率（1 kV 電壓下為 1.0 nm），而無需進行電子束減速。
- 背散射探測 - 始終保證良好的材料對比度，即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進行 TV 速率成像時也不例外。
- 探測器 - 可將各個探測器部分提供的信息相結(jié)合，獲得至關(guān)重要的對比度或信號強度。
- 多種電荷緩解策略，包括樣品倉壓力為 500 Pa 的低真空模式，可實現(xiàn)任何樣品的成像。
- 分析平臺：提供高電子束電流，而且光斑很小。樣品倉支持三個 EDS 探測器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對分析進行了優(yōu)化的低真空系
- 樣品處理和導航非常簡單，具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。
