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廣電計(jì)量檢測(cè)集團(tuán)股份有限公司

噴射型AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-RP1020-D

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市誠(chéng)峰智造有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)CRF-APO-RP
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2022/8/15 15:13:36
  • 訪問(wèn)次數(shù)207
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深圳市誠(chéng)峰智造有限公司(phone:13632675935  http://www.sfi-crf.com)是一家專業(yè)致力于提供等離子設(shè)備及工藝流程解決方案的*。中國(guó)香港、中國(guó)臺(tái)灣、深圳、蘇州、天津、成都、昆山、珠海設(shè)立八大銷(xiāo)售及客戶中心,銷(xiāo)售及客戶網(wǎng)絡(luò)遍布,擁有國(guó)內(nèi)外銷(xiāo)售及客服團(tuán)隊(duì)。源于美國(guó)&德國(guó)30年plasma生產(chǎn)制造及研發(fā)技術(shù),公司全資擁有CRF品牌下等離子設(shè)備的研發(fā),生產(chǎn),制造技術(shù),設(shè)備范圍涵蓋半導(dǎo)體,光伏光電,太陽(yáng)能,PCB&FPCB等行業(yè)。

等離子清洗機(jī),等離子表面處理機(jī),電漿機(jī),plasma設(shè)備,等離子設(shè)備
產(chǎn)品特點(diǎn):采用PFC全橋數(shù)字式等離子電源,輸出功率穩(wěn)定,抗力強(qiáng),反應(yīng)迅速
噴射型AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-RP1020-D 產(chǎn)品信息
產(chǎn)品特點(diǎn):
采用PFC全橋數(shù)字式等離子電源,輸出功率穩(wěn)定,抗力強(qiáng),反應(yīng)迅速;
可選配多種類(lèi)型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場(chǎng)合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;
設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動(dòng),節(jié)省客戶使用空間;
可ln-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;
使用壽命長(zhǎng),保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;
 
應(yīng)用范圍:
等離子清洗機(jī)等離子體處理儀主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。
 
等離子體清洗是提升產(chǎn)品產(chǎn)出率必經(jīng)之路。倒裝芯片機(jī)器設(shè)備在市場(chǎng)上愈來(lái)愈引人注目,等離子技術(shù)在穿透模具的細(xì)微空隙層面有著的優(yōu)勢(shì),不管物件體積尺寸如何,表層均可被激活和活化。

等離子體處理系統(tǒng)能夠提供迅速,勻稱的清洗或剝離效果。等離子體處理儀清洗過(guò)程是由濃度較高的自由基、密度低等離子體加溫而成。良好的勻稱性保持好的加工工藝操縱控制與在單個(gè)基板上運(yùn)行實(shí)際操作是十分關(guān)鍵的。

封裝前等離子清理和激活:
等離子體處理儀清洗活性技術(shù)性對(duì)半導(dǎo)體材料微集成電路芯片中的封裝模粘合特性提高有顯著的改善效果。高活性等離子體運(yùn)用自由基的有機(jī)化學(xué)動(dòng)能對(duì)各種各樣底材表層開(kāi)展處理:焊接料掩膜材料、模具鈍化處理層、焊盤(pán)和引線框架表層等。這清除了模具分層的難題,并且根據(jù)應(yīng)用的等離子體,沒(méi)有靜電感應(yīng)放電或其他潛在性的危害不良反應(yīng)。

等離子體蝕刻封裝:
集成電路芯片IC和印刷線路板pcb等封裝元器件的去封裝使內(nèi)部元器件顯露出去。打開(kāi)解封裝設(shè)備可查驗(yàn)?zāi)>?、?lián)接以及它在常見(jiàn)故障剖析過(guò)程中查驗(yàn)的特點(diǎn)。高聚物封裝材料的可選擇性浸蝕是元器件失靈分析的關(guān)鍵根據(jù),不危害金屬絲和元器件層的一致性。運(yùn)用等離子體清洗對(duì)封裝材料開(kāi)展清理除去,等離子體蝕刻具備高選擇性,不會(huì)受到等離子體蝕刻工藝的影響。

焊接前的等離子清洗:
等離子體處理儀清洗是集成電路芯片中提升焊盤(pán)潔凈度的重要工藝。經(jīng)等離子清洗處理后,球的剪切強(qiáng)度和抗拉強(qiáng)度明顯增強(qiáng)。理想化的是,在拉力試驗(yàn)過(guò)程中,當(dāng)鋼絲在跨過(guò)中破裂時(shí),應(yīng)當(dāng)維持電焊接在粘合墊上。PVAtepla與眾不同的等離子體可以有效除去有機(jī)污染物和金屬氧化物。

等離子清洗機(jī)清洗也適用觸控顯示屏的處理。舉個(gè)例子,在連接鍵合以前,將液晶顯示屏或OLED接線端子清除掉相接處的有機(jī)污染物,隨后再與導(dǎo)電膜融合。除此之外,在集成ic安裝(COG)預(yù)處理,等離子體對(duì)玻璃開(kāi)展活性是另一個(gè)關(guān)鍵運(yùn)用。
未找到相應(yīng)參數(shù)組,請(qǐng)于后臺(tái)屬性模板中添加

 

名稱(Name)

噴射型AP等離子處理系統(tǒng)(Jet type plasma processing system)

等離子電源型號(hào)(Plasma power model)

CRF-APO-R&D-XXXHD

旋轉(zhuǎn)噴式等離子噴槍型號(hào)(Direct jet type plasma spray gun modet)

旋噴式:RXX(Option:20mm-80mm)

電源(Power supply)

220V/AC,50/60Hz

功率(Power)

600-1000W/25KHz(Option)

功率因素(Power factor)

0.98

處理高度(Processing height)

5-15mm

處理寬幅(Processing width)

旋噴式:20-80mm(Option)

內(nèi)部控制模式(Internal control mode)

數(shù)字控制

外部控制模式(External control mode)

RS485/RS232、模擬通訊口、 啟停I/O

工作氣體(Gas)

Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa)

電源重量(Power weight)

10kg

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