EDI膜塊和RO反滲透在純水中的應(yīng)用

　　很多出產(chǎn)企業(yè)對(duì)純水設(shè)備的原理和應(yīng)用可能還存在一些熟悉不全和偏見(jiàn)，我們?cè)诮?jīng)營(yíng)的過(guò)程中就碰到過(guò)一個(gè)做化工出產(chǎn)企業(yè)主，堅(jiān)持使用多級(jí)軟化水來(lái)進(jìn)行晶體的出產(chǎn)，但水質(zhì)不穩(wěn)、而且維護(hù)起來(lái)特別麻煩，后來(lái)經(jīng)由我們的了解，我們給他提供了采用反滲透滲出和EDI技術(shù)的純水設(shè)備，使用起來(lái)非常的利便。

　　純水設(shè)備現(xiàn)在有幾種主要工藝：

　　預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透滲出系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－拋光混床－精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

　　預(yù)處理－反滲透滲出－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥18MΩ.CM）(新工藝)

　　預(yù)處理－一級(jí)反滲透滲出－加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級(jí)反滲透滲出（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線(xiàn)殺菌器－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥17MΩ.CM）(新工藝)

　　預(yù)處理－反滲透滲出－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥15MΩ.CM）(新工藝)

　　預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透滲出系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線(xiàn)殺菌器－精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

　　EDI膜塊和RO反滲透滲出在純水中的應(yīng)用

　　RO、EDI、離子交換樹(shù)脂是當(dāng)今制備純水的必選工藝設(shè)備。其中RO反滲透滲出是當(dāng)今一項(xiàng)實(shí)用的膜分離技術(shù)，是依賴(lài)反滲透滲出膜在壓力下使溶液中的溶劑與溶質(zhì)進(jìn)行分離的過(guò)程。可有效地去除水中的重金屬離子、鹽類(lèi)、細(xì)菌等，去除率達(dá)到98%以上；EDI連續(xù)電除鹽設(shè)備ContinuousElectrodeionization（電解式連續(xù)去離子）為模塊式設(shè)備，可根據(jù)需要任意組合，該系統(tǒng)不需要停機(jī)再生，無(wú)需酸堿，因此廢水排放題目也得到解決，更符合環(huán)保要求?？蓪⑺碾娮柚涤?.05-0.1MΩ/cm晉升至15-18MΩ/cm。EDI裝置現(xiàn)已應(yīng)用在半導(dǎo)體、電廠(chǎng)、電子、制藥、實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域制備高純水；陰陽(yáng)離子及混床離子交換水處理設(shè)備是利用陰陽(yáng)離子樹(shù)脂與水中溶解性鹽類(lèi)離子進(jìn)行離子交換的水處理技術(shù)；根據(jù)去除水中陰陽(yáng)離子及混床離子交換除鹽水系統(tǒng)的交換特性，可將系統(tǒng)分為：?jiǎn)未彩诫x子交換除鹽系統(tǒng)、雙床式離子交換除鹽系統(tǒng)和混床式離子交換除鹽系統(tǒng)。

　　純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：

　　微電子行業(yè):電解電容器出產(chǎn)、電子管出產(chǎn)、顯像管和陰極射線(xiàn)管出產(chǎn)、黑白顯像管熒光屏出產(chǎn)、液晶顯示器的出產(chǎn)、晶體管出產(chǎn)、集成電路出產(chǎn)、電子新材料出產(chǎn)；

　　醫(yī)藥行業(yè)：醫(yī)藥打針用無(wú)菌水出產(chǎn)、口服液出產(chǎn)、藥劑出產(chǎn)純化水、血液透析用水

　　化學(xué)化工：超純化學(xué)試劑出產(chǎn)化工新材料出產(chǎn)；

　　其它：貴金屬冶煉、磁性材料出產(chǎn)、電子級(jí)無(wú)塵布出產(chǎn)、光學(xué)材料出產(chǎn)等