光催化氧化是在外界可見光的作用下發(fā)生催化作用，以半導體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2和H2O及其它無毒無害成份。本公司利用人工紫外線光波作為能源，配合經(jīng)我公司特殊處理后活性強、反應效率高的納米TiO2催化劑，廢臭氣體經(jīng)過處理后可達到凈化的更理想的效果。

①本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射裂解工業(yè)惡臭氣體，使有機物或無機高分子惡臭化合物分子鏈在高能紫外線光束照射下。

②利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需要與氧分子結合，進而生產(chǎn)臭氧,臭氧對紫外線光束照射分解后的有機物具有*的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有良好的削除效果。

③惡臭氣體通過廢氣收集排風設備進入到裝有UV高效光解氧化模塊的反應腔后，高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

④利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，*達到脫臭及殺滅細菌的目的。

紫外線除臭設備是一種能高效快速的高科技環(huán)保凈化設備，運用高能量UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應,使惡臭氣體物質(zhì)其降解化成低分子化合物、水和二氧化碳，使用中無須任何添加劑,不產(chǎn)生二次污染。

光氧廢氣裝置（一重破壞、分解，三重催化氧化）破壞、分解

采用高能C波段（僅次于切割不銹鋼的激光，強于氬弧焊光源的數(shù)十倍強度）在設備內(nèi)，強裂解惡臭物質(zhì)分子鏈，改變物質(zhì)結構，將高分子污染物質(zhì)，裂解、氧化成為低分子無害物質(zhì)，如水和二氧化碳等。

①O₃強催化氧化劑進行廢氣催化氧化，可有效地殺滅細菌，將有毒有害物質(zhì)破壞且改變成為低分子無害物質(zhì)。

②催化劑涂層，在C波段激光刺激它產(chǎn)生活性，強化催化氧化作用。

③在分解過程中產(chǎn)生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O-+O*（活性氧）O+O₂-O₃（臭氧），*臭氧對有機物具有*的氧化作用，對惡臭氣體及其它剌激性異味有*的清除效果。O₃也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化，裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，*達到脫臭及殺滅菌的目的。

在半導體光催化氧化反應中，通過紫外光照射在納米TiO2催化劑上，納米TiO2催化劑吸收光能產(chǎn)生電子躍進和空穴躍進，經(jīng)過進一步的結合產(chǎn)生電子-空穴對，與廢氣表面吸附的水分（H₂O）和氧氣（O₂）反應生成氧化性很活波的羥基自由基和超氧離子自由基能夠把各種有機廢氣如烴類、醛類、酚類、醇類、硫醇 類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物以及其它VOC類有機物及無機物在光催化氧化的作用下還原成二氧化碳（CO₂）、水（H₂O）以及其它無毒無害物質(zhì)，經(jīng)過凈化之后的廢氣分子被活化降解，臭味也同時消失了，起到了廢氣凈化的作用，同時對管道內(nèi)滋生的細菌病毒都可以有效的去除，由于在光催化氧化反應過程中無 任何添加劑，所以不會產(chǎn)生二次污染，運行成本方面只是用到電能，無需經(jīng)常更換配件，對于企業(yè)來的使用上是相當?shù)墓?jié)能環(huán)保。

2、工藝流程

工業(yè)產(chǎn)生的惡臭廢氣氣體由集氣罩經(jīng)風管，通過風機的引力進入紫外線除臭設備（冷燃燒）后,利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氮、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO₂、H₂O等。脫臭效果大大超過國家頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93)。

3、應用范圍：

紫外線除臭設備廣泛應用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、魚粉廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化，其中除臭裝置特別適合用于印刷廠、五金家具塑料廠等噴漆尾氣的除苯除臭。