◆ 便攜式全譜直讀光譜分析儀合理的氬氣氣路設(shè)計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
◆ 采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設(shè)計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
◆ 高性能DSP及ARM處理器，具有走召高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、 光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況；
◆ 儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性；
◆ 核心器件全部*，保證了儀器優(yōu)秀的品質(zhì)；
便攜式全譜直讀光譜分析儀技術(shù)指標
1. 測光學系統(tǒng)
光學結(jié)構(gòu) | 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學系統(tǒng) |
光室溫度 | 自動控制恒溫：35℃±0.5℃ |
波長范圍 | 160-800 nm |
光柵焦距 | 350 mm |
光柵刻線 | 3600 l/mm |
一級光譜線色散率 | 1.2 nm/mm |
探測器 | 多塊高性能線陣CCD |
平均分辨率 | 10pm/pixel |
2. 激發(fā)臺
氣體 | 沖氬式 |
氬氣流量 | 激發(fā)時3~5 L/min， 待機時:無須待機流量 |
電極 | 鎢材噴射電極技術(shù) |
吹掃 | 點擊自吹掃功能 |
補償 | 熱變形自補償設(shè)計 |
分析間隙 | 樣品臺分析間隙：4 mm |
3. 激發(fā)光源
類型 | HEPS數(shù)字化固態(tài)光源 |
頻率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 1-80A |
特殊技術(shù) | 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計 |
預燃 | 高能預燃技術(shù) |
4. 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
處理器 | ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
接口 | 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 |
5. 電源與環(huán)境要求
輸入 | 220VAC 50Hz |
功率 | 分析時zui大700W， 待機狀態(tài)40W |
工作溫度 | 10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h） |
工作濕度 | 20-80% |
6. 尺寸與重量
尺寸 | 800*450*500 mm |
重量 | 8.5Kg |
概述
DP-8800全譜直讀光譜分析儀是我公司引進歐洲技術(shù)生產(chǎn)，是目前先近的*的第二代CCD光譜儀技術(shù)。儀器體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便，是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。
應用領(lǐng)域
廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航天、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。
性能特點
◆ 可測定包括痕量碳（C），磷（P），硫（S）元素，適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
◆ 分析速度快捷，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預燃時間及標線，使儀器用蕞短的時間達到蕞優(yōu)的分析效果；
◆ 光學系統(tǒng)采用非真空恒溫光室， 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現(xiàn)光路直通，消除了光路損耗，提高檢出限，測定結(jié)果準確，重現(xiàn)性及*穩(wěn)定性佳；
◆ 特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
◆ 自動光路校準，光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定；
◆ 開放式的電極架設(shè)計，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
◆ HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應各種不同材料；
◆ 固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高*運行穩(wěn)定性；
◆ 銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
