襄陽儀波達可控硅硅片清洗機，兩個單槽組合成的超聲波清洗機。一些有較高清潔度要求的工件通過一道清洗作業(yè)不能夠達到清潔度要求的，可以通過再次清洗方式達到非常高的清潔度要求。 

襄陽儀波達可控硅硅片清洗機一般按照客戶工件清洗要求設計制造，可以由超聲波清洗，超聲波漂洗，熱浸泡，烘干，上油等等工序或工序組合，可根據(jù)客戶實際需要。由機架,操作臺面,引風裝置,機臺照明,電控單元及清洗槽體等組成.本半導體硅片清洗設備的。引風裝置由引風窗和排風口所組成。3.機臺臺面為多孔結(jié)構,有利于操作臺面水,液的排出和清潔。照明采用20W照明燈管 。本半導體硅片清洗機每個槽體均由的控制器進行控制,其工藝參數(shù)均可單獨修改。電控單元設置在機臺的左上部,控制鍵盤,啟停按鈕以及急停開關均設置其上。加熱槽體采用氟加熱管。有保溫裝置。

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